[實(shí)用新型]一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020052652.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN211256086U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁吉磊;李廣超;馬雪峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥維信諾科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/50 | 分類號(hào): | C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
| 地址: | 230000 安徽省合*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化學(xué) 沉積 設(shè)備 | ||
1.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,包括:
工藝腔室,包括:容納空間和樣品入口;
封閉裝置,用于封閉或打開(kāi)所述樣品入口,所述封閉裝置封閉所述樣品入口時(shí),所述封閉裝置靠近所述容納空間的表面與所述工藝腔室開(kāi)設(shè)有所述樣品入口的第一側(cè)壁的內(nèi)側(cè)共面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述封閉裝置包括:第一平板和第一滑軌,所述第一平板與所述第一滑軌滑動(dòng)連接,所述第一滑軌的延伸方向與所述第一側(cè)壁平行,所述第一平板平行于所述第一側(cè)壁;
所述第一平板沿所述第一滑軌滑動(dòng)至所述樣品入口時(shí),所述第一平板遠(yuǎn)離所述第一滑軌的一側(cè)與所述第一側(cè)壁的內(nèi)側(cè)共面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述工藝腔室的與所述第一側(cè)壁相鄰的第二側(cè)壁設(shè)置有第一通孔,所述第一通孔的延伸方向平行于所述第一側(cè)壁,所述第一滑軌從所述工藝腔室外穿進(jìn)所述第一通孔,所述第一側(cè)壁沿垂直于所述第二側(cè)壁的方向的投影覆蓋所述第一通孔;所述第一通孔靠近所述容納空間的一側(cè)與所述第一側(cè)壁的內(nèi)側(cè)共面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述第一平板的平行于所述第一側(cè)壁的截面大于或等于所述樣品入口的平行于所述第一側(cè)壁的截面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述封閉裝置包括第二平板、第三平板、伸縮結(jié)構(gòu)和第二滑軌,所述第二平板和所述第三平板相對(duì),所述伸縮結(jié)構(gòu)位于所述第二平板和所述第三平板之間,所述伸縮結(jié)構(gòu)的兩端分別與所述第二平板和所述第三平板連接,所述伸縮結(jié)構(gòu)的伸縮方向平行于所述第一側(cè)壁的厚度方向,所述第二滑軌的延伸方向與所述第一側(cè)壁平行,所述第二平板平行于所述第一側(cè)壁;
所述第三平板與所述第二滑軌滑動(dòng)連接,所述第三平板沿所述第二滑軌滑動(dòng)至所述樣品入口時(shí),所述伸縮結(jié)構(gòu)拉伸,所述第二平板遠(yuǎn)離所述第二滑軌的一側(cè)與所述第一側(cè)壁的內(nèi)側(cè)共面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述第一側(cè)壁設(shè)置有第二通孔,所述第二通孔的延伸方向平行于所述第一側(cè)壁,所述第二滑軌從所述工藝腔室外穿進(jìn)所述第二通孔,所述第二通孔與所述樣品入口連通;所述第二通孔靠近所述容納空間的一側(cè)相對(duì)于所述第一側(cè)壁的內(nèi)側(cè)遠(yuǎn)離所述容納空間。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述第二平板的平行于所述第一側(cè)壁的截面與所述樣品入口的平行于所述第一側(cè)壁的截面相同,所述第三平板的平行于所述第一側(cè)壁的截面大于所述樣品入口的平行于所述第一側(cè)壁的截面。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述伸縮結(jié)構(gòu)包括波紋管,所述波紋管位于所述第二平板和所述第三平板之間,所述波紋管的兩端分別與所述第二平板和所述第三平板連接,以形成密封腔體;
所述封閉裝置還包括充放流體結(jié)構(gòu),與所述密封腔體連通,用于向所述密封腔體充入流體或使所述密封腔體排出流體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述流體包括氣體,所述充放流體結(jié)構(gòu)包括氣缸和空氣干燥壓縮機(jī),所述空氣干燥壓縮機(jī)用于驅(qū)動(dòng)所述氣缸向所述密封腔體充氣或使所述密封腔體排氣。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,其特征在于,所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備包括:等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
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C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
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