[實(shí)用新型]一種傳送卷型納米壓印設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020046032.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210954602U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 冀然 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/00 | 分類號(hào): | G03F7/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 266000 山東省青島市城陽(yáng)區(qū)長(zhǎng)城*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 傳送 納米 壓印 設(shè)備 | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種傳送卷型納米壓印設(shè)備,容納槽的內(nèi)壁裝配有傳送裝置,且傳送裝置上纏繞有壓印材料,容納槽的內(nèi)壁裝配有與壓印材料配合使用的涂布裝置和預(yù)處理裝置,容納槽的內(nèi)壁裝配有壓印裝置,壓印材料的上表面右側(cè)鋪設(shè)有具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料,容納槽的內(nèi)壁固定裝配有紫外固化裝置,容納槽的內(nèi)壁右側(cè)裝配有與具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料配合使用的覆膜裝置,容納槽內(nèi)腔左右側(cè)壁均裝配有除靜電裝置,容納槽內(nèi)壁左側(cè)固定裝配有與壓印材料配合使用的糾偏導(dǎo)向裝置,本裝置防止壓印材料張力不足或者張力過(guò)大引起壓印材料變形;有效防止壓印材料偏移;避免壓印完的壓印材料在收料輥收料時(shí)納米結(jié)構(gòu)粘連在壓印材料的底部;避免壓印材料發(fā)生靜電污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及納米壓印技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種傳送卷型納米壓印設(shè)備。
背景技術(shù)
傳送卷型納米壓印光刻是一種全新大面積微納米圖形化的方法,它具有高分辨率、低成本和超高生產(chǎn)率的特點(diǎn),尤其是它在大面積微納結(jié)構(gòu)連續(xù)和低成本制造方面具有非常突出的優(yōu)勢(shì)。
傳統(tǒng)納米壓印被認(rèn)為是一種平板型平面接觸壓印工藝,壓印材料傳送速度不宜控制,容易出現(xiàn)壓印材料張力不足或者張力過(guò)大引起的變形問(wèn)題;同時(shí)在壓印材料傳送過(guò)程中因自認(rèn)或外界因數(shù)可能會(huì)出現(xiàn)傳送位置偏移的現(xiàn)象,影響壓印質(zhì)量,壓印完的壓印材料直接纏繞在收料輥上,容易造成納米結(jié)構(gòu)與壓印材料底部的粘連;在傳送過(guò)程中壓印材料表面可能帶有靜電,吸附附近空氣中的顆粒污染物造成靜電污染,為了解決上述問(wèn)題,我們提出了一種傳送卷型納米壓印設(shè)備。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種傳送卷型納米壓印設(shè)備,以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種傳送卷型納米壓印設(shè)備,包括殼體,且殼體的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有容納槽,所述容納槽的內(nèi)壁裝配有傳送裝置,且傳送裝置上纏繞有壓印材料,所述容納槽的內(nèi)壁裝配有與壓印材料配合使用的涂布裝置和預(yù)處理裝置,所述容納槽的內(nèi)壁裝配有壓印裝置,所述壓印材料的上表面右側(cè)鋪設(shè)有具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料,且具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料穿過(guò)壓印裝置,所述容納槽的內(nèi)壁固定裝配有紫外固化裝置,且紫外固化裝置位于壓印裝置正下方,所述容納槽的內(nèi)壁右側(cè)裝配有與具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料配合使用的覆膜裝置,所述容納槽內(nèi)腔左右側(cè)壁均裝配有除靜電裝置,所述容納槽內(nèi)壁左側(cè)固定裝配有與壓印材料配合使用的糾偏導(dǎo)向裝置,所述容納槽內(nèi)壁左側(cè)固定裝配有貼合于壓印材料上表面的張力控制裝置,所述殼體的上表面中部嵌入裝配有空氣凈化裝置。
優(yōu)選的,所述傳送裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)裝配于容納槽內(nèi)壁左側(cè)的放料輥和轉(zhuǎn)動(dòng)裝配于容納槽內(nèi)壁右側(cè)的收料輥,所述容納槽內(nèi)壁固定裝配有透明傳送帶,且透明傳送帶位于放料輥和收料輥之間,所述放料輥和收料輥之間纏繞有壓印材料,且壓印材料貼合于透明傳送帶上表面,所述容納槽內(nèi)壁左右兩側(cè)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)裝配有輔助輥,且輔助輥貼合于壓印材料底面。
優(yōu)選的,所述涂布裝置包括固定裝配于容納槽內(nèi)壁的點(diǎn)膠機(jī)、刮刀和承壓板,所述容納槽內(nèi)壁轉(zhuǎn)動(dòng)裝配有網(wǎng)紋輥,且網(wǎng)紋輥位于壓印材料上方,所述刮刀的刀刃與網(wǎng)紋輥側(cè)壁貼合,且點(diǎn)膠機(jī)出料端位于刮刀與網(wǎng)紋輥之間,所述承壓板與透明傳送帶上側(cè)帶底面貼合。
優(yōu)選的,所述壓印裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)裝配于容納槽內(nèi)壁的模板輥,且模板輥下端與壓印材料貼合,所述容納槽的內(nèi)壁固定裝配有與透明傳送帶上側(cè)帶底面貼合的透明承壓板,且透明承壓板位于模板輥正下方,所述模板輥包括從內(nèi)至外依次粘貼的硬質(zhì)基材、緩沖層和模具層,且模具層與壓印材料貼合。
優(yōu)選的,所述覆膜裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)裝配于容納槽內(nèi)腔右側(cè)的覆膜放料輥和覆膜壓輥,所述覆膜放料輥和覆膜壓輥的外側(cè)纏繞有覆膜材料,且覆膜材料底面與具有納米結(jié)構(gòu)的壓印材料貼合。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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