[實用新型]一種真空倉

有效

• 申請號: 202020042310.0
• 申請日: 2020-01-09
• 公開（公告）號: CN211593634U
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 汪子歸;于海波;陳玉柱;鄭小滿;胡運興
• 申請（專利權）人: 華納創新（北京）科技有限公司
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20;B65D81/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種真空倉，其特征在于，包括外殼，腔體、圓盤、底盤、冷盤和制冷管；所述冷盤與所述制冷管設置于所述腔體內，所述圓盤設置于所述腔體的一側并且垂直于腔體；所述冷盤一邊與制冷管連接，一邊與底盤連接；所述底盤鑲嵌到所述的圓盤內，與所述圓盤為同心圓，所述圓盤與所述外殼連接，所述圓盤、底盤與所述外殼組成一個密閉的倉體。

2.根據權利要求1所述的真空倉，其特征在于，所述圓盤與所述外殼的連接處設置有墊圈。

3.根據權利要求1所述的真空倉，其特征在于，所述圓盤表面設置有真空孔和氣體管路孔，所述真空孔用于真空管的通過，所述氣體管路孔用于采樣氣體進出管線的通過。

4.根據權利要求3所述的真空倉，其特征在于，所述氣體管路孔與采樣氣體進出管線之間、真空孔與真空管之間通過聚醚醚酮樹脂材料密封，用于提供密閉的環境。

5.根據權利要求1所述的真空倉，其特征在于，所述冷盤的形狀為圓形，材質為銅。