[實(shí)用新型]一種防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020026043.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN211570768U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藍(lán)圖;黃洪福 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市志橙半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/458 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/458 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防止 旋轉(zhuǎn) 不平衡 石墨 基座 | ||
1.一種防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,包括旋轉(zhuǎn)基座、安裝槽,所述安裝槽設(shè)置在旋轉(zhuǎn)基座的中心位置并從旋轉(zhuǎn)基座的上表面向底部延伸,其特征在于,還包括與銷(xiāo)釘配合連接的卡槽,所述安裝槽的外側(cè)周?chē)鶆蛲钩鲈O(shè)置有多個(gè)卡槽,所述卡槽從旋轉(zhuǎn)基座的上表面向底部延伸,所述卡槽與安裝槽連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述安裝槽的槽口為圓形,所述卡槽的軸心方向與安裝槽槽口的圓周切線(xiàn)方向的夾角為0°~180°。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述卡槽的軸心方向與安裝槽槽口的圓周切線(xiàn)方向垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述卡槽的深度小于安裝槽的深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述安裝槽為兩層,所述安裝槽上端為圓柱形腔體,下端為底面與圓柱形底面重合的倒錐形腔體,所述卡槽與安裝槽的上端連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述卡槽槽口與旋轉(zhuǎn)基座上表面的連接處設(shè)有倒角,所述倒角從卡槽槽口向安裝槽槽口延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述卡槽為沿旋轉(zhuǎn)基座上表面垂直向下延伸的柱形腔體,所述卡槽的兩個(gè)側(cè)面互相平行并一端連通安裝槽,所述兩個(gè)側(cè)面均與安裝槽旋轉(zhuǎn)圓周的切線(xiàn)垂直,所述兩個(gè)側(cè)面的另一端連接一個(gè)半圓性弧面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述卡槽的深度為2-20mm,所述卡槽沿安裝槽旋轉(zhuǎn)圓周切線(xiàn)方向的寬度為1-6mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述石墨基座均勻設(shè)有2-12個(gè)卡槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述防止旋轉(zhuǎn)不平衡的石墨基座,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)基座為圓柱體。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





