[實用新型]一種陣列式液滴晶體制備裝置有效
| 申請號: | 202020009872.5 | 申請日: | 2020-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN211713241U | 公開(公告)日: | 2020-10-20 |
| 發明(設計)人: | 周禹杉 | 申請(專利權)人: | 浙江工業大學 |
| 主分類號: | C30B7/02 | 分類號: | C30B7/02 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 鄭海峰 |
| 地址: | 310014 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 式液滴 晶體 制備 裝置 | ||
1.一種陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于包括操作箱、陣列液滴制備模塊、晶體生長基底模塊和溶劑吸收裝置;
所述的操作箱為可封閉腔體,其內部設有溫濕度調控模塊,所述溶劑吸收裝置設置在操作箱上并與操作箱內部連通;所述的操作箱內設有多層晶體生長區域,晶體生長區域之間以隔板相隔,晶體生長區域之間的氣體相通;
所述的晶體生長基底模塊上表面經過疏水處理;晶體生長基底模塊可水平放置在晶體生長區域內,并可從晶體生長區域取出;
所述的陣列液滴制備模塊包括若干結構相同呈陣列布置的滴液管,陣列液滴制備模塊用于向晶體生長基底板滴液;滴液時,陣列液滴制備模塊位于晶體生長基底模塊正上方。
2.根據權利要求1所述的陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于所述的操作箱側邊設有基底進出門,基底進出門與操作箱箱體之間設有密封條。
3.根據權利要求1所述的陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于所述的溶劑吸收模塊包括筒體和與筒體相連的吸氣泵,所述的筒體內填充有固體吸收劑,筒體與操作箱內的空腔相通。
4.根據權利要求1所述的陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于所述的溫濕度調控模塊包括控制器、加熱器、冷風機、加濕器和溫濕度傳感器,所述的溫濕度傳感器與控制器相連用于傳輸溫濕度檢測數據,所述的控制器與加熱器、冷風機、加濕器電連接。
5.根據權利要求1所述的陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于所述的滴液管內設有活塞,滴液管底部設有滴液頭;所述的陣列液滴制備模塊還包括至少一個步進電機,所述滴液管的活塞通過連接件與步進電機相連;所述陣列液滴制備模塊內的活塞同步運動。
6.根據權利要求1所述的陣列式液滴晶體制備裝置,其特征在于所述的晶體生長基底模塊上表面為光滑平面。
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