[實用新型]一種高效的半導體晶圓清洗裝置

有效

• 申請號: 202020003232.3
• 申請日: 2020-01-02
• 公開（公告）號: CN211938071U
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 付華秀
• 申請（專利權）人: 江蘇盛斗士網絡技術有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 梁永昌

本實用新型公開了一種高效的半導體晶圓清洗裝置，涉及到半導體技術領域。包括箱體，所述箱體的底部設置有電機一，所述電機一的端頭設置有轉軸一，所述轉軸一的另一端設置有皮帶，所述皮帶的另一端設置有轉軸二，所述轉軸二的另一端套設有轉盤，所述轉盤的周圍設置有若干連接塊一，所述連接塊一的內部設置有連接桿。有益效果：在轉盤上設置多個放置槽，利用電機帶動轉盤旋轉，噴頭對放置槽內的半導體噴淋，實現了對多個半導體晶圓的集中清洗，提高了裝置的利用效率和清洗效率，利用螺紋桿轉動帶動連接塊二上下運動，從而使噴頭可以上下調整，可以清洗到大面積的半導體晶圓，使清洗液能夠與半導體晶圓充分接觸，提高了裝置的清洗質量。

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，具體來說，涉及一種高效的半導體晶圓清洗裝置。

背景技術

晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓；在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結構，而成為有特定電性功能之IC產品。晶圓的原始材料是硅，而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經由電弧爐提煉，鹽酸氯化，并經蒸餾后，制成了高純度的多晶硅，其純度高達99.999999999％。

申請號為CN201820783245.X的一種半導體晶圓清洗裝置，包括清洗箱，所述清洗箱內中間放置有半導體圓晶，所述半導體圓晶下方設置有滾輪，所述清洗箱內底部一端固定連接第一電機，所述清洗箱內底部另一端固定連接出液口，所述第一電機動力輸出端通過皮帶與靠近第一電機的滾輪轉動連接，所述半導體圓晶兩側設置有清洗棒，所述清洗棒一端固定連接第二電機，所述清洗棒另一端通過齒輪轉動連接，所述半導體圓晶兩側上方固定連接進液管，所述進液管下方固定連接噴頭。該裝置通過滾輪滾動來帶動半導體晶圓滾動，但是該裝置每次只能放置一個半導體晶圓，無法滿足對大批量半導體晶圓的清洗，效率低下，且缺少對半導體晶圓的放置裝置，半導體晶圓在清洗時會發生滑動，對半導體晶圓造成損壞，造成一定的經濟損失，導致清洗效率降低。

針對相關技術中的問題，目前尚未提出有效的解決方案。

實用新型內容

針對相關技術中的問題，本實用新型提出一種高效的半導體晶圓清洗裝置，以克服現有相關技術所存在的上述技術問題。

本實用新型的技術方案是這樣實現的：

一種高效的半導體晶圓清洗裝置，包括箱體，所述箱體的底部設置有電機一，所述電機一的端頭設置有轉軸一，所述轉軸一的另一端設置有皮帶，所述皮帶的另一端設置有轉軸二，所述轉軸二的另一端套設有轉盤，所述轉盤的周圍設置有若干連接塊一，所述連接塊一的內部設置有連接桿，所述連接桿外設置有放置槽，所述放置槽與連接桿活動連接，所述箱體的頂端表面設置有電機二，所述電機二的端頭設置有螺紋桿，所述螺紋桿外套設有連接塊二，所述連接塊二與螺紋桿活動連接，所述連接塊二的一端設置有噴頭，所述連接塊二的另一端設置有輸送管，所述輸送管的另一端設置有儲液室，所述箱體的一側設置有兆聲波發生器。

進一步，所述電機一為異步電機。

進一步，所述箱體的底部設置有減震海綿。

進一步，所述連接塊一在轉盤的周圍呈相同間隔分布。

進一步，所述放置槽的內部設置有防腐蝕層。