[實用新型]一種多級真空的鍍膜設備有效
| 申請號: | 202020002635.6 | 申請日: | 2020-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN211256083U | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 張元勝 | 申請(專利權)人: | 深圳市悅目光學器件有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 深圳科灣知識產權代理事務所(普通合伙) 44585 | 代理人: | 鐘斌 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍華*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 多級 真空 鍍膜 設備 | ||
本實用新型公開了一種多級真空的鍍膜設備,包括機械泵,所述機械泵頂部固定連接有第一傳輸管,所述第一傳輸管頂部末端固定連接有羅茲泵,所述羅茲泵頂部固定連接有第一輸入管,所述第一輸入管頂部連接有初級真空閥,所述初級真空閥一側連接有第二傳輸管,所述第二傳輸管底部設置有高溫油DP泵,所述高溫油DP泵底部固定連接有加熱隔間,所述加熱隔間一側內壁固定連接有連接板,本實用新型中,通過設置機械泵、羅茲泵、初級真空閥、及真空主閥等裝置,在啟動運行后,系統自動關閉初級真空閥,機械泵和羅咨泵開始運行產生初級真空,初級真空達到預設值,初級真空閥開啟,向真空腔提供初級真空,該裝置結構簡單,方便實用。
技術領域
本實用新型涉及鍍膜設備技術領域,尤其涉及一種多級真空的鍍膜設備。
背景技術
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種,主要思路是分成蒸發和濺射兩種,需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材,基片與靶材同在真空腔中,蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜,對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。
真空鍍膜的品質與真空度的高低有很大關系,在鍍膜過程需要不同等級的真空度,但真空度越高,抽真空的時間也會增加,因此合理的設計真空順序和工藝,即可以滿足鍍膜品質,又能提高鍍膜效率。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種多級真空的鍍膜設備。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:一種多級真空的鍍膜設備,包括機械泵,所述機械泵頂部固定連接有第一傳輸管,所述第一傳輸管頂部末端固定連接有羅茲泵,所述羅茲泵頂部固定連接有第一輸入管,所述第一輸入管頂部連接有初級真空閥,所述初級真空閥一側連接有第二傳輸管,所述第二傳輸管底部設置有高溫油DP泵,所述高溫油DP泵底部固定連接有加熱隔間,所述加熱隔間一側內壁固定連接有連接板,所述連接板一側外壁固定連接有電阻絲,所述高溫油DP泵頂部固定連接有第三輸入管,所述第三輸入管頂部末端與第二傳輸管相互貫通連接,所述高溫油DP泵一側固定連接有第四輸入管,所述第四輸入管頂部末端固定連接有預設值DP泵閥,所述預設值DP泵閥頂部末端固定連接有第二輸入管,所述第二輸入管與第二傳輸管相互貫通連接,所述第二傳輸管頂部固定連接有真空主閥,所述高溫油DP泵一側設置有真空腔,所述第二傳輸管與真空腔相互貫通連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述機械泵與羅茲泵之間通過第一傳輸管相連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述第二傳輸管與第三輸入管及第二輸入管互相貫通。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述高溫油DP泵頂部內側及一側內部分貝與第三輸入管及第四輸入管相對應位置均開設有連接孔。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述加熱隔間與高溫油DP泵之間通過焊接相固定連接。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述連接板通過固定螺釘與加熱隔間相固定連接,且連接板的數量為兩組,兩組連接板之間關于加熱隔間的中心軸線相對稱。
本實用新型具有如下有益效果:
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