[發(fā)明專利]一種全自動(dòng)晶圓背面激光標(biāo)記裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011645384.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114695226A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃政;張兵;鄭盼;陳兆華;李榮廣;郭良;溫堯明;覃忠賢;焦波;謝圣君;呂啟濤;高云峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/68 | 分類號(hào): | H01L21/68;H01L21/67;B23K26/362;B23K26/70;B23K37/04 |
| 代理公司: | 深圳市世聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44385 | 代理人: | 汪琳琳 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 全自動(dòng) 背面 激光 標(biāo)記 裝置 方法 | ||
本發(fā)明涉及晶圓激光標(biāo)記技術(shù)領(lǐng)域,公開一種全自動(dòng)晶圓背面激光標(biāo)記裝置及方法。該裝置包括:機(jī)械系統(tǒng),包括機(jī)架、設(shè)置在所述機(jī)架上的夾具組件,用于固定和校平待標(biāo)記晶圓;上下料系統(tǒng),用于放置待標(biāo)記晶圓和已標(biāo)記晶圓;機(jī)械手系統(tǒng),用于取放和移送待標(biāo)記晶圓、及已標(biāo)記晶圓;晶圓自動(dòng)尋邊系統(tǒng),用于對(duì)機(jī)械手系統(tǒng)移送的待標(biāo)記晶圓進(jìn)行自動(dòng)尋邊校準(zhǔn);視覺(jué)系統(tǒng),用于檢測(cè)尋邊校準(zhǔn)后的待標(biāo)記晶圓得到試打標(biāo)的定位數(shù)據(jù),并對(duì)實(shí)際打標(biāo)位置進(jìn)行測(cè)量確定其是否超差。雙激光系統(tǒng),用于根據(jù)所述定位數(shù)據(jù)進(jìn)行試打標(biāo),在實(shí)際打標(biāo)位置不超差時(shí),完成對(duì)待打標(biāo)晶圓進(jìn)行標(biāo)記。本發(fā)明提高了晶圓激光標(biāo)記的效率,可以適應(yīng)變形較大的晶圓,提高晶圓激光標(biāo)記的精度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓激光標(biāo)記技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說(shuō),特別涉及一種全自動(dòng)晶圓背面激光標(biāo)記裝置及方法。
背景技術(shù)
隨著晶圓的廣泛使用,傳統(tǒng)的晶圓標(biāo)記方法如:氣動(dòng)沖針、絲網(wǎng)印刷、機(jī)械壓痕、噴墨打印、化學(xué)腐蝕等,但這些加工方式都存在著不同的缺陷與不足,使得激光標(biāo)記日漸成為當(dāng)今晶圓標(biāo)記的主流。激光標(biāo)記是利用高能量密度的激光對(duì)工件表面進(jìn)行局部照射,使得表層材料氣化或發(fā)生顏色變化的化學(xué)反應(yīng),從而留下永久性標(biāo)記的一種打標(biāo)方法。
在目前使用的晶圓標(biāo)記系統(tǒng)中,晶圓標(biāo)記平臺(tái)存在著很大的缺陷,其只能利用晶圓的最外側(cè)邊緣部分支撐在打標(biāo)夾具上,為了不遮擋住標(biāo)記區(qū)域,晶圓的中間大部分為懸空,而且由于晶圓制作工藝的影響造成晶圓本身存在變形,使得夾具上的晶圓整體變形較大,給晶圓的定位、打標(biāo)精度、質(zhì)量和速度都帶來(lái)了較大影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問(wèn)題,提供一種全自動(dòng)晶圓背面激光標(biāo)記裝置及方法,能夠提高激光標(biāo)記的精度和工作效率。
為了解決以上提出的問(wèn)題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
本發(fā)明實(shí)施例提供一種全自動(dòng)晶圓背面激光標(biāo)記裝置,包括:
機(jī)械系統(tǒng),包括機(jī)架、設(shè)置在所述機(jī)架上的夾具組件,用于固定和校平待標(biāo)記晶圓;
上下料系統(tǒng),用于放置待標(biāo)記晶圓和已標(biāo)記晶圓;
機(jī)械手系統(tǒng),用于取放和移送待標(biāo)記晶圓、及已標(biāo)記晶圓;
晶圓自動(dòng)尋邊系統(tǒng),用于對(duì)機(jī)械手系統(tǒng)移送的待標(biāo)記晶圓進(jìn)行自動(dòng)尋邊校準(zhǔn);
視覺(jué)系統(tǒng),用于檢測(cè)尋邊校準(zhǔn)后的待標(biāo)記晶圓得到試打標(biāo)的定位數(shù)據(jù),并對(duì)實(shí)際打標(biāo)位置進(jìn)行測(cè)量確定其是否超差。
雙激光系統(tǒng),用于根據(jù)所述定位數(shù)據(jù)進(jìn)行試打標(biāo),在實(shí)際打標(biāo)位置不超差時(shí),完成對(duì)待打標(biāo)晶圓進(jìn)行標(biāo)記。
在一些實(shí)施例中,所述機(jī)械系統(tǒng)還包括大理石基座和夾具組件安裝板,所述夾具組件安裝板上設(shè)置所述夾具組件,兩者通過(guò)大理石基座設(shè)置在所述機(jī)架上;所述夾具組件包括設(shè)置在所述夾具組件安裝板上的電動(dòng)升降組件和電動(dòng)旋轉(zhuǎn)組件,所述電動(dòng)旋轉(zhuǎn)組件上設(shè)置有晶圓夾具,所述電動(dòng)升降組件包括設(shè)置在所述夾具組件安裝板上的電動(dòng)升降臺(tái),所述電動(dòng)升降臺(tái)上設(shè)置有晶圓壓板。
在一些實(shí)施例中,所述電動(dòng)升降組件采用兩組分別設(shè)置在所述晶圓夾具的兩側(cè),所述晶圓壓板與所述電動(dòng)旋轉(zhuǎn)組件之間還設(shè)置導(dǎo)向軸和軸承。
在一些實(shí)施例中,所述上下料系統(tǒng)包括料架機(jī)構(gòu),所述料架機(jī)構(gòu)的工作臺(tái)上設(shè)置有晶圓料盒、料盒固定塊和料盒檢測(cè)裝置,所述晶圓料盒包括待標(biāo)記晶圓料盒和NG料盒;所述料架機(jī)構(gòu)上還設(shè)置有防傾斜的擋板。
在一些實(shí)施例中,所述視覺(jué)系統(tǒng)包括上視覺(jué)檢測(cè)組件、視覺(jué)定位組件和下視覺(jué)檢測(cè)組件;
所述上視覺(jué)檢測(cè)組件設(shè)置于所述晶圓自動(dòng)尋邊系統(tǒng)的上方,用于自動(dòng)識(shí)別待標(biāo)記晶圓的邊緣條碼或WAFER ID;
所述視覺(jué)定位組件設(shè)置于所述雙激光系統(tǒng)的上方,用于自動(dòng)抓取待標(biāo)記晶圓上面的特征點(diǎn),得到試打標(biāo)的定位數(shù)據(jù);
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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