[發(fā)明專利]圖像處理方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)、芯片、模組設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011643817.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112634138A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡均浩;葛維;李振中 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 紫光展銳(重慶)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T3/40 | 分類號(hào): | G06T3/40 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強(qiáng);李光金 |
| 地址: | 400700 重慶市*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) 芯片 模組 | ||
圖像處理方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)、芯片、模組設(shè)備,該方法包括:獲取待處理圖像的邊界信息,從而根據(jù)邊界信息確定目標(biāo)邊界區(qū)域在多個(gè)預(yù)設(shè)方向上的能量參數(shù);根據(jù)能量參數(shù)從多個(gè)預(yù)設(shè)方向中確定出目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的第一參考方向,并根據(jù)第一參考方向確定第一方向向量;確定第二方向向量和第三方向向量,并計(jì)算第一方向向量、第二方向向量和第三方向向量分別對(duì)應(yīng)的明度差距參數(shù),根據(jù)明度差距參數(shù)從第一方向向量、第二方向向量和第三方向向量中確定出目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的目標(biāo)方向向量;根據(jù)目標(biāo)方向向量對(duì)待處理圖像進(jìn)行矢量變化處理,得到矢量變化處理后的圖像。采用此方式,可以在實(shí)現(xiàn)對(duì)位圖的矢量化處理的基礎(chǔ)上,提高矢量化處理的效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種圖像處理方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)、芯片、模組設(shè)備。
背景技術(shù)
在數(shù)字媒體研究領(lǐng)域中,數(shù)字圖像主要有位圖和矢量圖兩種不同的類型。相對(duì)于位圖,矢量圖的數(shù)據(jù)量較小、易于編輯和修改,并且圖像的質(zhì)量不會(huì)因縮放操作受到影響。如何對(duì)位圖進(jìn)行矢量化處理是目前的研究熱點(diǎn)。
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)、芯片、模組設(shè)備,可以在實(shí)現(xiàn)對(duì)位圖的矢量化處理的基礎(chǔ)上,提高矢量化處理的效果。
第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理方法,所述方法包括:
獲取待處理圖像,并獲取所述待處理圖像的邊界信息,所述邊界信息包括處于所述待處理圖像中任意兩個(gè)對(duì)象之間形成的邊界上的像素點(diǎn)的特征數(shù)據(jù);
針對(duì)所述待處理圖像中的目標(biāo)邊界區(qū)域,根據(jù)所述邊界信息確定所述目標(biāo)邊界區(qū)域在多個(gè)預(yù)設(shè)方向上的能量參數(shù),并根據(jù)所述能量參數(shù)從所述多個(gè)預(yù)設(shè)方向中確定出所述目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的第一參考方向;
根據(jù)所述第一參考方向確定第一方向向量;
確定第二方向向量和第三方向向量,并計(jì)算所述第一方向向量、所述第二方向向量和所述第三方向向量分別對(duì)應(yīng)的明度差距參數(shù);
根據(jù)所述明度差距參數(shù)從所述第一方向向量、所述第二方向向量和所述第三方向向量中確定出所述目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的目標(biāo)方向向量,并根據(jù)所述目標(biāo)方向向量對(duì)所述待處理圖像進(jìn)行矢量變化處理,得到矢量變化處理后的圖像。
第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種圖像處理裝置,所述裝置包括:
獲取模塊,用于獲取待處理圖像,并獲取所述待處理圖像的邊界信息,所述邊界信息包括處于所述待處理圖像中任意兩個(gè)對(duì)象之間形成的邊界上的像素點(diǎn)的特征數(shù)據(jù);
處理模塊,用于針對(duì)所述待處理圖像中的目標(biāo)邊界區(qū)域,根據(jù)所述邊界信息確定所述目標(biāo)邊界區(qū)域在多個(gè)預(yù)設(shè)方向上的能量參數(shù),并根據(jù)所述能量參數(shù)從所述多個(gè)預(yù)設(shè)方向中確定出所述目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的第一參考方向;
處理模塊,還用于根據(jù)所述第一參考方向確定第一方向向量;
處理模塊,還用于確定第二方向向量和第三方向向量,并計(jì)算所述第一方向向量、所述第二方向向量和所述第三方向向量分別對(duì)應(yīng)的明度差距參數(shù);
處理模塊,還用于根據(jù)所述明度差距參數(shù)從所述第一方向向量、所述第二方向向量和所述第三方向向量中確定出所述目標(biāo)邊界區(qū)域所對(duì)應(yīng)的目標(biāo)方向向量,并根據(jù)所述目標(biāo)方向向量對(duì)所述待處理圖像進(jìn)行矢量變化處理,得到矢量變化處理后的圖像。
可選地,所述處理模塊,具體用于:
根據(jù)所述目標(biāo)邊界區(qū)域從所述待處理圖像中確定參考圖像區(qū)域;
確定所述參考圖像區(qū)域中多個(gè)參考方向上的能量參數(shù),所述多個(gè)參考方向中的每個(gè)參考方向由所述目標(biāo)邊界區(qū)域指向所述參考圖像區(qū)域的邊緣;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于紫光展銳(重慶)科技有限公司,未經(jīng)紫光展銳(重慶)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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