[發明專利]一種反應倉在審
| 申請號： | 202011642868.3 | 申請日： | 2020-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN112665944A | 公開（公告）日： | 2021-04-16 |
| 發明（設計）人： | 潘洋;趙鵬;耿志強;劉耀基;王超;彭伏光;劉聰;劉君 | 申請（專利權）人： | 安圖實驗儀器（鄭州）有限公司 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28;G01N1/38;G01N1/40;B01F5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 劉翠香 |
| 地址： | 450016 河南省鄭州市*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反應 | ||
【權利要求書】：
1.一種反應倉，其特征在于，包括用于放置試劑的腔體，所述腔體的外壁面包括用于與富集裝置(7)接觸的試劑富集面(3)、兩個主體面(1)以及兩個用于與溫育加熱塊接觸的加熱面(2)，所述加熱面(2)設置于所述主體面(1)下方；
所述腔體的內壁面包括用于與吸液器(8)接觸的注液面(4)、弧形的液體渦旋面(5)以及液體緩沖面(6)，所述液體緩沖面(6)設置于所述液體渦旋面(5)上方。
2.根據權利要求1所述的反應倉，其特征在于，所述試劑富集面(3)對應的內壁面為所述注液面(4)。
3.根據權利要求2所述的反應倉，其特征在于，所述試劑富集面(3)與所述腔體的入口橫截面的夾角為80°-90°。
4.根據權利要求1-3任一項所述的反應倉，其特征在于，所述主體面(1)、所述加熱面(2)和所述試劑富集面(3)均為光滑平面。
5.根據權利要求1-3任一項所述的反應倉，其特征在于，自所述腔體的入口到所述腔體的底面，所述腔體的橫截面面積逐漸減小。
6.根據權利要求1-3任一項所述的反應倉，其特征在于，所述腔體的入口橫截面為腰形，兩個所述加熱面(2)之間的距離為所述腰形的短邊長。
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