[發明專利]多層復合納米散射板及其制備方法在審
| 申請號： | 202011639077.5 | 申請日： | 2020-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN112649908A | 公開（公告）日： | 2021-04-13 |
| 發明（設計）人： | 邵明燕;葛偉新 | 申請（專利權）人： | 常州豐盛光電科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/02 | 分類號： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258 | 代理人： | 謝新萍 |
| 地址： | 213022 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多層 復合 納米 散射 及其 制備 方法 | ||
1.一種多層復合納米散射板，其特征在于，所述散射板包括接收光線的入光層(1)，以及出射光線的出光層(2)；
所述入光層包括透明介質以及分散在透明介質內用于形成瑞利散射的納米粒子A；
所述入光層為1-5層單層結構；
所述出光層為光擴散層。
2.如權利要求1所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述出光層包括透明介質以及分散在透明介質內起光擴散作用的納米粒子B；或出光層為起光擴散作用的磨砂、皮紋、微納米結構或涂布層；磨砂、皮紋或微納米結構是經輥筒熱壓形成。
3.如權利要求1所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述單層結構厚度0.05-6mm。
4.如權利要求1所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述透明介質包括PMMA、PS、PC、MS、PET。
5.如權利要求1所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述入光層為2層或2層以上單層結構時，分散在各單層結構中的納米粒子濃度遞增。
6.如權利要求1所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述形成瑞利散射的納米粒子A為無機納米粒子、金屬納米粒子或有機納米粒子，粒徑10-500nm。
7.如權利要求2所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述起光擴散作用納米粒子B為無機納米粒子、金屬納米粒子或有機納米粒子，粒徑500nm-100μm。
8.如權利要求6或7所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述無機納米粒子為：二氧化硅、二氧化鈦、碳酸鈣、硫酸鋇、方解石、磷化銦、硫化鎘、硒化鎘、碲化鎘；有機納米粒子為有機硅、丙烯酸類樹脂、苯乙烯樹脂；金屬納米粒子為：Ag，Al，Au，Cu。
9.如權利要求6或7所述的多層復合納米散射板，其特征在于，所述納米粒子在透明介質中的質量濃度為0.01‰-5％。
10.一種多層復合納米散射板的制備方法，其特征在于，所述制備方法為多層共擠、熱壓固化、涂布、澆鑄成型。
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