[發明專利]一種射頻消融儀的控制方法及其系統在審
| 申請號: | 202011638339.6 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112754644A | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發明(設計)人: | 崔長杰;徐宏 | 申請(專利權)人: | 杭州堃博生物科技有限公司 |
| 主分類號: | A61B18/12 | 分類號: | A61B18/12;H01H3/14 |
| 代理公司: | 深圳尚業知識產權代理事務所(普通合伙) 44503 | 代理人: | 文蓉 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州市濱*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 射頻 消融 控制 方法 及其 系統 | ||
1.一種射頻消融儀的控制方法,應用于射頻消融儀,其特征在于,所述射頻消融儀包括腳踏開關接口并利用所述腳踏開關接口和腳踏開關相連接,其中,所述控制方法包括:
接收用戶對所述腳踏開關的踩踏動作;
根據所述踩踏動作判斷踩踏方式;
利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作。
2.如權利要求1所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述踩踏方式包括單擊踩踏,其中,所述根據所述踩踏動作判斷踩踏方式的步驟具體包括:
在所述踩踏開關被踩踏之后,啟動間隔計時,如果在所述間隔計時的時間內沒有發生第二次所述踩踏開關被踩踏,則判斷所述踩踏方式為單擊踩踏。
3.如權利要求2所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作的步驟具體包括:
在判斷所述踩踏方式為單擊踩踏之后,控制所述射頻消融儀進行啟動消融操作,或者控制所述射頻消融儀進行暫停消融操作。
4.如權利要求1所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述踩踏方式包括雙擊踩踏,其中,所述根據所述踩踏動作判斷踩踏方式的步驟具體包括:
在所述踩踏開關被踩踏之后,啟動間隔計時,如果在所述間隔計時的時間內發生第二次所述踩踏開關被踩踏,則判斷所述踩踏方式為雙擊踩踏。
5.如權利要求4所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作的步驟具體包括:
在判斷所述踩踏方式為雙擊踩踏之后,控制所述射頻消融儀進行結束消融操作。
6.如權利要求1所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述踩踏方式包括長按踩踏,其中,所述根據所述踩踏動作判斷踩踏方式的步驟具體包括:
在所述踩踏開關被踩踏之后,啟動間隔計時,如果在所述間隔計時超時時所述踩踏開關還是被踩踏,則判斷所述踩踏方式為長按踩踏。
7.如權利要求6所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作的步驟具體包括:
在判斷所述踩踏方式為長按踩踏之后,控制所述射頻消融儀進行恢復消融參數操作。
8.如權利要求1所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述根據所述踩踏動作判斷踩踏方式的步驟具體包括:
觸發針對所述腳踏開關的狀態切換的邏輯判斷,并啟動計時器進行計時,在下一次狀態切換到來時,記錄本次觸發持續時間,其中,所述腳踏開關從抬起狀態到踏下狀態或者從踏下狀態到抬起狀態為一次狀態切換。
9.如權利要求8所述的射頻消融儀的控制方法,其特征在于,所述利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作的步驟具體包括:
將所述本次觸發持續時間與預設觸發時間進行對比,根據對比結果控制所述射頻消融儀進行啟動消融操作、或者暫停消融操作、或者結束消融操作、或者消融參數操作。
10.一種射頻消融儀的控制系統,應用于射頻消融儀,其特征在于,所述射頻消融儀包括腳踏開關接口并利用所述腳踏開關接口和腳踏開關相連接,其中,所述控制系統包括:
輸入模塊,用于接收用戶對所述腳踏開關的踩踏動作;
判斷模塊,用于根據所述踩踏動作判斷踩踏方式;
控制模塊,用于利用所述踩踏方式的不同控制所述射頻消融儀的不同操作。
11.如權利要求10所述的射頻消融儀的控制系統,其特征在于,所述踩踏方式包括單擊踩踏,其中,所述判斷模塊,具體用于在所述踩踏開關被踩踏之后,啟動間隔計時,如果在所述間隔計時的時間內沒有發生第二次所述踩踏開關被踩踏,則判斷所述踩踏方式為單擊踩踏;
其中,所述控制模塊,具體用于在判斷所述踩踏方式為單擊踩踏之后,控制所述射頻消融儀進行啟動消融操作,或者控制所述射頻消融儀進行暫停消融操作。
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