[發(fā)明專利]磁電阻器件以及改變其阻態(tài)的方法、突觸學(xué)習(xí)模塊有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011637866.5 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112864314B | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邢國忠;王迪;林淮;劉龍;劉宇;呂杭炳;謝常青;李泠;劉明 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L43/08 | 分類號: | H01L43/08;H01L43/12;G11C11/16 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 鄢功軍 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁電 器件 以及 改變 方法 突觸 學(xué)習(xí) 模塊 | ||
1.一種磁電阻器件,包括沿預(yù)設(shè)方向依次排列的頂電極(101)、鐵磁參考層(102)、隧穿層(103)、鐵磁自由層(104)、自旋軌道耦合層(105)、底電極(106);其中
所述自旋軌道耦合層(105)包括交替分布的第一厚度區(qū)(1051)和第二厚度區(qū)(1052),所述第一厚度區(qū)(1051)和第二厚度區(qū)(1052)的厚度不同;
所述鐵磁自由層(104)中包括釘扎區(qū)(202),所述釘扎區(qū)(202)的位置與所述第一厚度區(qū)(1051)的位置一一對應(yīng);
其中,所述自旋軌道耦合層(105)和所述鐵磁自由層(104)之間形成強(qiáng)弱不同的反對稱交換作用,所述自旋軌道耦合層(105)中厚度越大的地方反對稱交換作用越大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁電阻器件,其中所述第一厚度區(qū)(1051)的厚度大于所述第二厚度區(qū)(1052)的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁電阻器件,還包括DMI增強(qiáng)層(107),其中所述DMI增強(qiáng)層(107)位于所述隧穿層(103)和所述鐵磁自由層(104)之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁電阻器件,其中所述DMI增強(qiáng)層(107)的材料包括以下至少之一:Ti、Cu、W、Ta、Al。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁電阻器件,其中所述鐵磁自由層(104)中包括N個釘扎區(qū)(202),所述磁電阻器件包括N+2個阻態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁電阻器件,其中:
所述鐵磁參考層(102)的材料包括以下至少之一:CoFeB、CoFe、Co/Pt復(fù)合材料;
所述鐵磁自由層(104)的材料包括以下至少之一:CoFeB、CoFe、Co/Pt復(fù)合材料;
所述隧穿層(103)的材料包括以下至少之一:MgO、Al2O3。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁電阻器件,其中所述自旋軌道耦合層(105)的材料包括以下至少之一:W、Ta、Pt。
8.一種改變權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的磁電阻器件阻態(tài)的方法,包括:
對所述磁電阻器件通入調(diào)制驅(qū)動電流,其中所述調(diào)制驅(qū)動電流作用于所述自旋軌道耦合層(105);
通過改變所述調(diào)制驅(qū)動電流特性改變所述磁電阻器件的阻態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,改變所述調(diào)制驅(qū)動電流特性包括:
改變所述調(diào)制驅(qū)動電流的以下至少之一:脈寬、脈沖幅值、脈沖數(shù)量、脈沖方向。
10.一種包含權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的磁電阻器件的突觸學(xué)習(xí)模塊,包括:
訓(xùn)練單元,用于根據(jù)前神經(jīng)元信號與后神經(jīng)元信號的到達(dá)順序、以及所述前神經(jīng)元信號與所述后神經(jīng)元信號之間的時間間隔產(chǎn)生寫入脈沖;
突觸器件,包括所述磁電阻器件;其中所述磁電阻器件的頂電極(101)、底電極(106)與所述訓(xùn)練單元連接。
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