[發明專利]一種盤胚用糾偏機構及含有糾偏機構的清洗裝置

在審

• 申請號: 202011635525.4
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112845299A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 林奕強
• 申請（專利權）人: 廣東金強藝陶瓷實業有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B1/02;B08B13/00;B65G47/22
• 代理公司: 廣州浩泰知識產權代理有限公司 44476
• 代理人: 陳明月

本發明提供了一種盤胚用糾偏機構，包括2個糾偏盤、2個高度調節機構和距離調節機構；2個高度調節機構與距離調節機構連接，通過距離調節機構同時調節2個糾偏盤的前后距離；還提供一種含有糾偏機構的清洗裝置，包括盤胚用糾偏機構，還包括清洗機構、上料機構、旋轉平臺、若干盤胚放置臺、下料機構。通過高度調節機構和距離調節機構的作用，糾偏盤可在高度和與盤胚放置臺的距離上進行調節，操作方便且精準對位、高質量糾偏作業；通過上料機構、旋轉平臺、盤胚用糾偏機構、清洗機構、下料機構等作業，全自動化的完成了對盤胚的清洗，生產效率高，清洗質量高。

技術領域

本發明涉及盤胚清洗技術領域，尤其是一種盤胚用糾偏機構及含有糾偏機構的清洗裝置。

背景技術

陶瓷材料是用天然或合成化合物經過成形和高溫燒結制成的一類無機非金屬材料，具有高熔點、高硬度、高耐磨性、耐氧化等優點，因此以陶瓷材料為原料所制的陶瓷餐具需求量日益增加。

在陶瓷盤子生產過程中，對盤胚的清洗是一道必不可少的工序；如果人工清洗，既增加了勞動強度，還耗時，生產效率低；而設備對盤胚的清洗過程中，由于盤胚的擺放位置不統一等原因，使得盤胚清洗不全面或清洗不干凈，這嚴重影響盤胚清洗拋光的質量，不利于高質量的盤子生產，因此，在設備對盤胚清洗時，擺正好盤胚的位置，對擺放位置不統一的盤胚進行糾偏及其重要。

發明內容

為了解決上述的問題，本發明提供了一種盤胚用糾偏機構及含有糾偏機構的清洗裝置。

為了實現以上目的，本發明是通過如下技術方案來實現：

一是提供一種盤胚用糾偏機構，包括2個糾偏盤、2個高度調節機構和距離調節機構；2個所述糾偏盤分別與2個第一電機連接，2個所述第一電機分別通過2個連接桿與2個所述高度調節機構連接進行所述糾偏盤的高度調節，2個所述高度調節機構與所述距離調節機構連接，通過所述距離調節機構同時調節2個所述糾偏盤的前后距離。

進一步的，所述高度調節機構包括手輪、螺紋桿、一側開口的直筒和螺紋套，所述螺紋桿設置在所述直筒的內部且所述螺紋桿的上端與所述直筒通過軸承連接，所述螺紋桿的上頂端與所述手輪連接，所述螺紋套與所述螺紋桿螺紋連接，所述螺紋套與所述連接桿固定連接，所述直筒的下端與所述距離調節機構連接；通過轉動所述手輪即可實現所述糾偏盤的高度調節，操作方便。

進一步的，所述距離調節機構包括第一氣缸、第一滑塊、第一滑軌和第一連接件，所述第一滑軌的一端上設有所述第一氣缸，所述第一氣缸與所述第一連接件連接，所述第一連接件的兩端分別連接所述高度調節機構，所述第一連接件的下端面設有所述第一滑塊，所述第一滑塊與所述第一滑軌滑動連接；所述第一連接件是弧形桿，其弧度與所述旋轉平臺的弧度相同，便于所述糾偏盤對所述盤胚的糾偏作業；通過所述第一氣缸即可同時調節兩個所述糾偏盤與兩個所述盤胚放置臺的距離，操作方便，效率高。

二是提供一種含有所述盤胚用糾偏機構的清洗裝置，包括所述盤胚用糾偏機構，還包括清洗機構、上料機構、旋轉平臺、若干盤胚放置臺、下料機構；靠近所述旋轉平臺的邊緣逆時針依次設有所述上料機構、所述糾偏盤、所述清洗機構、下料機構；若干所述盤胚放置臺固定在所述旋轉平臺的邊緣且其上端面放置有盤胚，所述滑軌上遠離所述第一氣缸的一端與所述旋轉平臺固定連接且不隨著旋轉，所述糾偏盤位于所述盤胚的下方且對所述盤胚進行糾偏作業；

其中，所述上料機構包括第一傳送帶、安裝在所述第一傳送帶上的對位機構、吸取放置在所述第一傳送帶上的所述盤胚的第一吸盤機構和把所述盤胚翻轉放置在所述盤胚放置臺上的翻盤機構；所述清洗機構包括清洗輪、驅動所述清洗輪的第二電機、調節所述清洗輪與所述旋轉平臺距離的調節機構；所述下料機構包括第二傳送帶和第二吸盤機構。

進一步的，所述對位機構包括雙向氣缸，所述雙向氣缸的兩端作業桿連接有對位桿，所述對位桿位于所述第一傳送帶的上方并對所述第一傳送帶上的所述盤胚進行對位；通過所述雙向氣缸使得所述第一傳送帶上方的所述對位桿同時對所述盤胚進行對位，快捷、精準對位。