[發(fā)明專利]一種改性耐候母粒及其制備方法與應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011635254.2
• 申請(qǐng)日: 2020-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN112831067B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚廣;孫春光;安平;羅海;李海平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 利安隆（內(nèi)蒙古）新材料有限公司;天津利安隆新材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C08J3/22
• 分類號(hào): C08J3/22;C08L23/12;C08L25/06;C08L23/06;C08K5/3435
• 代理公司: 北京睿陽聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11758
• 代理人: 郭奧博;張穎

本發(fā)明提供了一種改性耐候母粒及其制備方法和應(yīng)用，所述改性耐候母粒包括顆粒狀耐候劑以及包覆于其表面的聚合物層。本發(fā)明提供的改性耐候母粒表面包覆有聚合物層，可以避免顆粒性耐候劑因高溫引起的粘性增加造成結(jié)塊或部分物質(zhì)析出導(dǎo)致遷移或泄露的現(xiàn)象，繼而避免了在應(yīng)用時(shí)耐候劑析出導(dǎo)致的材料穩(wěn)定性下降，力學(xué)性能降低等缺點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種改性耐候母粒及其制備方法與應(yīng)用。

背景技術(shù)

隨著人類生活質(zhì)量以及生產(chǎn)技術(shù)水平的不斷提高，高分子材料已經(jīng)廣泛應(yīng)用到人類社會(huì)生活的各個(gè)領(lǐng)域。但高分子材料在加工、貯存和使用的過程中，普遍存在其物理性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)和力學(xué)性能逐漸變差的現(xiàn)象，統(tǒng)稱為高分子材料的老化或者降解。為了防止或延緩高分子材料的老化，延長其使用壽命，目前常規(guī)做法是加入一些添加劑，例如光穩(wěn)定劑，其能夠干預(yù)高分子材料光誘導(dǎo)降解物理化學(xué)過程，是最常用也是最重要的高分子材料添加劑之一。

目前光穩(wěn)定劑的品種主要包括二苯甲酮類、苯并三唑類、三嗪類紫外線吸收劑，鎳鹽類激發(fā)態(tài)猝滅劑和受阻胺類光穩(wěn)定劑，受阻胺型光穩(wěn)定劑的光穩(wěn)定效果是傳統(tǒng)吸收型光穩(wěn)定劑的2～4倍，且與大部分樹脂例如PP、TPO、聚縮醛、聚酰胺等具有良好的相容性，因此目前應(yīng)用最為廣泛。

雖然目前的受阻胺型光穩(wěn)定劑的光穩(wěn)定性優(yōu)良，但是部分受阻胺型光穩(wěn)定劑的熔點(diǎn)較低，在使用或儲(chǔ)存運(yùn)輸時(shí)較易析出，或易受到溫度等因素影響而粘度增加，一方面會(huì)導(dǎo)致其結(jié)塊，影響使用，另外一方面當(dāng)其應(yīng)用于高分子材料后，光穩(wěn)定劑析出不僅會(huì)導(dǎo)致材料的穩(wěn)定性下降，還會(huì)導(dǎo)致材料的力學(xué)性能降低。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種改性耐候母粒及其制備方法，本發(fā)明提供的方法制備得到的改性耐候母粒表面包覆有聚合物層，可以避免顆粒性耐候劑析出導(dǎo)致結(jié)塊的現(xiàn)象，繼而避免了在應(yīng)用時(shí)耐候劑析出導(dǎo)致的材料穩(wěn)定性下降，力學(xué)性能降低等缺點(diǎn)。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明提供一種改性耐候母粒，包括顆粒狀耐候劑以及包覆于其表面的聚合物層，所述聚合物層的厚度為0.5～100微米。

本發(fā)明采用聚合物包覆的形式，將顆粒性耐候劑包覆于聚合物內(nèi)，形成核殼結(jié)構(gòu)，可以避免顆粒性耐候劑在使用時(shí)因受到高溫加工或儲(chǔ)存運(yùn)輸過程中的擠壓引起的粘度增加導(dǎo)致結(jié)塊的缺點(diǎn)，也可以避免耐候母粒發(fā)生析出或遷移，繼而避免了在應(yīng)用于高分子材料時(shí)導(dǎo)致的材料穩(wěn)定性下降，力學(xué)性能降低等缺點(diǎn)。

為了避免聚合物層的厚度對(duì)耐候劑的影響，本發(fā)明所述聚合物層的厚度為0.5～100微米，例如1微米、5微米、10微米、20微米、50微米、90微米等。若聚合物層的厚度過薄，則會(huì)存在包覆不完全的現(xiàn)象，若聚合物層的厚度過厚，則會(huì)導(dǎo)致聚合物層的粘連或影響耐候母粒的應(yīng)用。本發(fā)明所述聚合物層的厚度優(yōu)選為1-20μm。

本發(fā)明所述顆粒狀耐候劑的粒徑為0.5～10mm，優(yōu)選為1-5mm粒徑的顆粒。

本發(fā)明所述顆粒狀耐候劑為光穩(wěn)定劑，或者包含基材以及光穩(wěn)定劑的光穩(wěn)定劑母粒。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述光穩(wěn)定劑為受阻胺型光穩(wěn)定劑，和/或，所述光穩(wěn)定劑的熔點(diǎn)低于80℃，優(yōu)選為20～70℃，例如25℃、28℃、30℃、35℃、40℃、50℃、60℃等。

如果耐候劑中含有熔點(diǎn)低于80℃的光穩(wěn)定劑，則容易析出且導(dǎo)致耐候劑互相粘連，影響使用，采用本發(fā)明提供的改性耐候母粒可以克服上述缺陷。

作為本發(fā)明的一種具體實(shí)施方式，所述受阻胺型光穩(wěn)定劑為2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯(UV-3853)，聚[1-(2'-羥乙基)-2.2.6.6-四甲基-4-羥基哌啶丁二酸酯](UV-622)，2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯與3,5-二叔丁基-4-羥基苯甲酸正十六酯的混合物(UV-3808)。