[發明專利]清洗方法及裝置、處理器及清洗設備

有效

• 申請號: 202011634913.0
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112826397B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: 范志恒;全永兵;陳蔚;魏中科;王彩霞
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的洗滌電器制造有限公司
• 主分類號: A47L15/00
• 分類號: A47L15/00;A47L15/42;A47L15/44
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 陳瀟瀟

1.一種清洗方法，應用于清洗設備，其特征在于，所述清洗方法包括：

確定所述清洗設備內的待清洗物品包括具有涂層的鍋具；

檢測用于清洗所述鍋具的清洗介質的酸堿值；

根據所述清洗介質的酸堿值添加堿性清洗劑，以將所述清洗介質的酸堿值調整到高于第一酸堿閾值；

使用調整酸堿值后的清洗介質對所述鍋具進行清洗。

2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述根據所述清洗介質的酸堿值添加堿性清洗劑，以將所述清洗介質的酸堿值調整到高于第一酸堿閾值包括：

確定所述酸堿值低于所述第一酸堿閾值；

向所述清洗介質中添加與所述酸堿值對應劑量的堿性清洗劑；

經過預設第一時長后，重新檢測清洗介質的酸堿值；

在重新檢測到的酸堿值低于所述第一酸堿閾值的情況下，重復添加所述堿性清洗劑和重新檢測酸堿值的步驟，直至所述酸堿值高于所述第一酸堿閾值。

3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述向所述清洗介質中添加與所述酸堿值對應劑量的堿性清洗劑包括：

當所述清洗介質的酸堿值低于預設第二閾值時，添加第一劑量的堿性清洗劑；

當所述清洗介質的酸堿值高于預設第二閾值，低于預設第一閾值時，添加第二劑量的堿性清洗劑，其中，所述第一劑量大于所述第二劑量。

4.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述向所述清洗介質中添加與所述酸堿值對應劑量的堿性清洗劑包括：

根據所述清洗介質的酸堿值，每次添加相同劑量的堿性清洗劑。

5.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述使用調整酸堿值后的清洗介質對所述鍋具進行清洗包括：

檢測清洗過程中清洗介質的酸堿值；

在所述清洗介質的酸堿值超出預設范圍的情況下，添加與所述酸堿值對應劑量的堿性清洗劑，

經過預設第二時長后，重新檢測清洗介質的酸堿值；

在重新檢測到的酸堿值超出預設范圍的情況下，重復添加所述堿性清洗劑和重新檢測酸堿值的步驟，直至檢測的所述清洗介質的酸堿值在預設范圍以內。

6.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述確定所述清洗設備內的待清洗物品包括具有涂層的鍋具包括：

獲取所述待清洗物品的圖像數據，根據所述圖像數據確定所述待清洗物品為有涂層的鍋具。

7.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述確定所述清洗設備內的待清洗物品包括具有涂層的鍋具還包括：

接收用戶發送的指令，根據所述指令確定待清洗物品為有涂層的鍋具。

8.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述檢測用于清洗所述鍋具的清洗介質的酸堿值之前還包括：

用不含堿性清洗劑的清洗介質沖洗所述有涂層的鍋具預設第三時長。

9.一種處理器，其特征在于，被配置成執行根據權利要求1至8中任意一項所述的清洗方法。

10.一種清洗裝置，應用于清洗設備，其特征在于，所述清洗裝置包括：

酸堿值檢測模塊，被配置成檢測用于清洗所述清洗設備內的待清洗物品的清洗介質的酸堿值；以及

根據權利要求9所述的處理器。

11.根據權利要求10所述的清洗裝置，其特征在于，還包括：

圖像采集設備，被配置成對所述清洗設備內進行拍照，以獲取所述待清洗物品的圖像數據。

12.一種清洗設備，其特征在于，包括根據權利要求10或11所述的清洗裝置。

13.根據權利要求12所述的清洗設備，其特征在于，所述清洗設備包括洗碗機。

14.一種存儲介質，所述存儲介質上存儲有指令，其特征在于，所述指令用于使得機器執行根據權利要求1至8任一項所述的清洗方法。