[發明專利]一種防偽識別方法、系統及防偽識別標簽有效
| 申請號: | 202011634140.6 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112819114B | 公開(公告)日: | 2022-04-05 |
| 發明(設計)人: | 戴良虎 | 申請(專利權)人: | 上海超級標貼系統有限公司 |
| 主分類號: | G06K17/00 | 分類號: | G06K17/00;G06K19/06;G06Q30/00;G09F3/02 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 謝緒寧;薛赟 |
| 地址: | 201600 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防偽 識別 方法 系統 標簽 | ||
1.一種防偽識別方法,其特征在于:包括如下步驟:
S1:設置防偽載體,在防偽載體上設置第一防偽標識,所述第一防偽標識上設有多個隨機分布的防偽成像,所述防偽成像的姿態與位置均隨機成形;
S2:在防偽載體上設置第二防偽標識,所述第二防偽標識附著在所述第一防偽標識上并遮擋所述防偽成像的部分面積;
S3:出廠前,使用用于識別并解析第二防偽標識的攝像裝置拍攝防偽載體,生成第一圖像,第一圖像中包括第二防偽標識以及被第二防偽標識遮擋后的第一防偽標識;在不同光線條件與不同角度條件下拍攝多幅圖像,第一圖像為多幅圖像中一幅或者多幅的組合;
S4:出廠后,使用用于識別并解析第二防偽標識的攝像裝置拍攝防偽載體,生成第二圖像,第二圖像中包括第二防偽標識以及被第二防偽標識遮擋后的第一防偽標識;
S5:識別第二防偽標識,調用第二防偽標識對應的第一圖像,將第二圖像中的第一防偽標識與第一圖像中的第一防偽標識對比判斷,若是對比判斷的結果為重復率小于預設的第一標準值,則標記當前識別的防偽載體,并進行提示。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:所述S1中還包括:
S101:設置成像模具,該模具的端部具有預設圖像;
S102:成像模具在防偽載體上壓印出多個相鄰的預設圖像,多個預設圖像組成所述第一防偽標識,第一防偽標識上設有鐳射表面。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于:所述S102中還包括:成像模具每次壓印的姿態不同,壓印后,防偽載體上相鄰的預設圖像之間重疊、緊貼和/或設有間隙。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于:所述S1中,在所述S102之后還包括:
S103:按預設路徑或隨機路徑切割出形狀相同且表面圖像不同的防偽載體。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:
所述S3中,還包括:
拍攝時,使用燈光從不同的角度照射防偽載體,每次更換角度和/或燈光對應生成一個圖像,記錄連續的圖像中同一像素點的像素值,將連續生成的像素值按照矩陣排列擬合出與圖像的分辨率相同的第一擬合圖,第一圖像包括第一擬合圖;
所述S4中,還包括:
拍攝時,使用燈光從不同的角度照射防偽載體,每次更換角度和/或燈光對應生成一個圖像,記錄連續的圖像中同一像素點的像素值,將連續生成的像素值按照矩陣排列擬合出與圖像的分辨率相同的第二擬合圖,第二圖像包括第二擬合圖。
6.根據權利要求2所述的方法,其特征在于:所述S5中,還包括:
S501:識別第二防偽標識的內容作為識別內容;
S501:拍攝第二防偽標識邊緣處的第一防偽標識成像作為識別圖像;
S502:將識別內容與識別圖像,與第一圖像的第一防偽標識中對應部分進行局部判斷,若是局部判斷的結果為重復率小于預設的第二標準值,則標記當前識別的防偽載體,并進行提示。
7.一種防偽識別系統,其特征在于:包括以下模塊:
第一防偽標識形成模塊(1),用于設置防偽載體,在防偽載體上設置第一防偽標識,所述第一防偽標識上設有多個隨機分布的防偽成像,所述防偽成像的姿態與位置均隨機成型;
第二防偽標識形成模塊(2),用于在防偽載體上設置第二防偽標識,所述第二防偽標識附著在所述第一防偽標識上并遮擋所述防偽成像的部分面積;
第一圖像生成模塊(3),用于在出廠前,使用用于識別并解析第二防偽標識的攝像裝置拍攝防偽載體,生成第一圖像,第一圖像中包括第二防偽標識以及被第二防偽標識遮擋后的第一防偽標識;
第二圖像生成模塊(4),用于在出廠后,使用用于識別并解析第二防偽標識的攝像裝置拍攝防偽載體,生成第二圖像,第二圖像中包括第二防偽標識以及被第二防偽標識遮擋后的第一防偽標識;
第二防偽標識識別模塊(5),用于識別第二防偽標識,調用第二防偽標識對應的第一圖像,將第二圖像中的第一防偽標識與第一圖像中的第一防偽標識對比判斷,若是對比判斷的結果為重復率小于預設的第一標準值,則標記當前識別的防偽載體,并進行提示。
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