[發(fā)明專利]一種表面冷凝除塵方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011630595.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN112845334A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 元武智;廖智興;何奎;陳捷超;葛亞;黃斯珉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞理工學(xué)院
• 主分類號(hào): B08B3/04
• 分類號(hào): B08B3/04;B08B13/00;H02S40/10;B01D5/00
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 陳娟

1.一種表面冷凝除塵方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：對(duì)表面進(jìn)行處理，使得表面的接觸角不低于150°、滾動(dòng)角不高于5°；

S2：將表面置于相對(duì)濕度不低于60％，表面溫度與環(huán)境的露點(diǎn)溫度的差值不高于-3℃的環(huán)境下至少0.5h，且表面與水平面的傾斜角不低于表面的滾動(dòng)角，即可在表面形成冷凝水，并利用冷凝水的滾落除塵。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，S1中利用如下方式中的一種或多種對(duì)表面進(jìn)行處理：增加表面粗糙度和/或在表面接枝低表面能物質(zhì)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，利用酸堿刻蝕、噴砂處理或表面微加工對(duì)表面進(jìn)行處理以增加表面粗糙度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述低表面能物質(zhì)為氟硅烷試劑或硅氧烷試劑中的一種或幾種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述氟硅烷試劑為十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷或聚全氟烷基硅氧烷中的一種或幾種。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述硅氧烷試劑為三甲基羥基硅烷、全氟癸基三乙氧基硅氧烷或聚二甲基硅氧烷中的一種或幾種。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述接枝的方法為浸泡、旋涂、噴涂或氣相沉積中的一種或幾種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述表面的材質(zhì)為玻璃、金屬板、橡膠或塑料。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，所述表面的接觸角為150～165°、滾動(dòng)角為0～5°。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述表面冷凝除塵方法，其特征在于，S2中表面溫度與環(huán)境的露點(diǎn)溫度的差值為-10～-3℃；表面與水平面的傾斜角為5～30°。