[發明專利]利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法在審
| 申請號： | 202011628364.6 | 申請日： | 2020-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN112853263A | 公開（公告）日： | 2021-05-28 |
| 發明（設計）人： | 劉勝;宋磊;宋毅;桂成群 | 申請（專利權）人： | 武漢大學 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 石超群 |
| 地址： | 430072 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 光刻 校正 補償 精細 金屬 蒸鍍網 形變 誤差 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1、獲取精細金屬掩膜板樣品的形變誤差參數；
步驟S2、基于獲取到的形變誤差參數調整光刻參數以使光刻得到的基板的形變誤差與所述精細金屬掩膜板樣品的形變誤差相一致。
2.如權利要求1所述的利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于，在所述步驟S2之后還包括：
步驟S3、基于調整后的光刻參數完成光刻過程以得到相對應的基板；
步驟S4、當光刻得到的所述基板的形變誤差與所述精細金屬掩膜板樣品的形變誤差相一致時，則判斷光刻校正補償為有效。
3.如權利要求2所述的利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于：
當光刻得到的所述基板的形變誤差與所述精細金屬掩膜板樣品的形變誤差不一致時，則返回所述步驟S2。
4.如權利要求2所述的利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于，在所述步驟S4之后還包括：
步驟S5、基于所述調整后的光刻參數執行對基板的光刻過程。
5.如權利要求3所述的利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于：
根據實際加工需求，周期性執行該方法。
6.如權利要求1所述的利用光刻校正補償精細金屬蒸鍍網形變誤差的方法，其特征在于：
所述精細金屬掩膜板樣品的形變誤差參數至少包括偏移誤差與角度誤差。
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