[發明專利]腔體內的清潔方法在審
| 申請號： | 202011626986.5 | 申請日： | 2020-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN112813415A | 公開（公告）日： | 2021-05-18 |
| 發明（設計）人： | 張亞新;李培培 | 申請（專利權）人： | 拓荊科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44;C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司： | 沈陽維特專利商標事務所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 110179 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 體內 清潔 方法 | ||
1.腔體內的清潔方法，其特征在于，包含：
下電極控溫步驟，其系控制下電極至預定溫度；
電極間距調整步驟，其系將前述下電極升降，控制上電極與前述下電極間之間距；
薄膜沉積步驟，其系將薄膜沉積于基板上；
清潔氣體通入步驟，其系從腔體的一上電極通入電漿狀態之清潔氣體至腔體中；及
清潔氣體壓力控制步驟，其系藉由一閥門調節手段，調整腔體內前述清潔氣體的壓力在一第一壓力和一第二壓力之間循環切換數次，且該第一壓力大于該第二壓力。
2.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：前述預定溫度為150℃～400℃。
3.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：還包含藉由電動機帶動前述下電極升降，并將前述上電極與前述下電極間之間距控制在6～15毫米。
4.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：前述清潔氣體為NF3，其經由電漿源產生器形成氟離子后，前述氟離子經由前述上電極通入腔體內。
5.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：前述清潔氣體進入所述腔體的流量為1500～4500sccm。
6.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：所述閥門調節手段，藉由一蝶閥控制前述腔體內之前述清潔氣體的壓力。
7.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：前述腔體內之壓力在清潔過程中系在該第一壓力和該第二壓力間切換，前述第一壓力為3～6torr，前述第二壓力為0.5～2torr。
8.如權利要求1所述的清潔方法，其特征在于：前述第一壓力為一高壓狀態和前述第二壓力為一低壓狀態，兩者間之切換頻率為每5～15秒切換1次。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
