[發(fā)明專利]一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011626898.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112837883B | 公開(公告)日: | 2022-10-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬韜;伍銳;戴少濤;胡磊;馬化韜;黃建民;伍宇揚(yáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江西聯(lián)創(chuàng)光電超導(dǎo)應(yīng)用有限公司;江西聯(lián)創(chuàng)光電科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01F6/04 | 分類號(hào): | H01F6/04;H01F6/06;H01F6/00 |
| 代理公司: | 北京睿博行遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11297 | 代理人: | 龔家驊 |
| 地址: | 330096 江西省南昌市高新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 超導(dǎo) 磁體 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及超導(dǎo)磁體技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng),其包括:杜瓦結(jié)構(gòu),杜瓦結(jié)構(gòu)內(nèi)形成有密封空腔;超導(dǎo)磁體,設(shè)置于密封空腔內(nèi),超導(dǎo)磁體包括筒體和超導(dǎo)線圈,筒體的兩端連接有第一線圈端板和第二線圈端板,超導(dǎo)線圈繞設(shè)于筒體上;冷卻裝置,穿設(shè)于杜瓦結(jié)構(gòu),冷卻裝置在密封空腔內(nèi)延伸且接觸于超導(dǎo)磁體,冷卻裝置用于冷卻超導(dǎo)磁體;冷卻裝置包括:制冷機(jī)、導(dǎo)冷板、導(dǎo)冷線圈、導(dǎo)冷條,通過將超導(dǎo)線圈的兩側(cè)邊緣接觸于導(dǎo)冷線圈,使得繞制在筒體上的每一層超導(dǎo)帶材均與導(dǎo)冷線圈接觸,大大提升了超導(dǎo)線圈與導(dǎo)冷線圈的傳導(dǎo)面積,提升了制冷機(jī)對(duì)超導(dǎo)磁體的冷卻速率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及超導(dǎo)磁體技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng)。
背景技術(shù)
近年來,超導(dǎo)技術(shù)在各行業(yè)中飛速發(fā)展,尤其在高溫超導(dǎo)技術(shù)領(lǐng)域內(nèi),要實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的大功率快速加熱,必須依賴一個(gè)低溫環(huán)境使得磁體在超導(dǎo)的臨界條件下實(shí)現(xiàn)。現(xiàn)有技術(shù)中,超導(dǎo)磁體的運(yùn)行需要穩(wěn)定的低溫環(huán)境,超導(dǎo)磁體運(yùn)行的低溫環(huán)境主要有三種方式:低溫液體浸泡冷卻、再冷凝式冷卻和制冷機(jī)傳導(dǎo)冷卻。其中,液體浸泡冷卻主要用液氦或液氮作為浸泡介質(zhì),但這種方式需要專業(yè)的運(yùn)輸和充罐操作,增加了系統(tǒng)應(yīng)用的復(fù)雜性,并且受到國(guó)際氦資源限產(chǎn)等因素的影響,液氦價(jià)格持續(xù)上漲,使系統(tǒng)應(yīng)用成本增加進(jìn)而限制了液體浸泡式冷卻方式的運(yùn)用。
目前,制冷機(jī)傳導(dǎo)的冷卻方式常常應(yīng)用在體積小線圈匝數(shù)少的低功率的超導(dǎo)感應(yīng)加熱設(shè)備中,其原因在于,制冷機(jī)傳導(dǎo)冷卻的方式中傳導(dǎo)件與磁體線圈的接觸面積較小,導(dǎo)致該種冷卻方式應(yīng)用在匝數(shù)多、功率大的超導(dǎo)感應(yīng)加熱設(shè)備時(shí)冷卻速率較慢。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng),以解決現(xiàn)有技術(shù)中制冷機(jī)傳導(dǎo)的冷卻方式因傳導(dǎo)件和磁體線圈的接觸面積較小導(dǎo)致的冷卻速率慢的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,提供了一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng),其包括:杜瓦結(jié)構(gòu),所述杜瓦結(jié)構(gòu)內(nèi)形成有密封空腔;超導(dǎo)磁體,設(shè)置于所述密封空腔內(nèi),所述超導(dǎo)磁體包括筒體和所述超導(dǎo)線圈,所述筒體的兩端連接有第一線圈端板和第二線圈端板,所述超導(dǎo)線圈繞設(shè)于所述筒體上;冷卻裝置,穿設(shè)于所述杜瓦結(jié)構(gòu),所述冷卻裝置在所述密封空腔內(nèi)延伸且接觸于所述超導(dǎo)磁體,所述冷卻裝置用于冷卻所述超導(dǎo)磁體;其中,所述冷卻裝置包括:制冷機(jī),設(shè)置于所述杜瓦結(jié)構(gòu)的外部,且所述制冷機(jī)的制冷頭穿過所述杜瓦結(jié)構(gòu)向所述密封空腔內(nèi)延伸;導(dǎo)冷板,連接于所述制冷頭,且所述導(dǎo)冷板布置于所述第一線圈端板上;導(dǎo)冷線圈,套設(shè)于所述筒體上,且所述超導(dǎo)線圈接觸于所述導(dǎo)冷線圈;導(dǎo)冷條,連接于所述導(dǎo)冷板和所述導(dǎo)冷線圈。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述導(dǎo)冷線圈用于對(duì)所述制冷頭和所述超導(dǎo)線圈上的熱量經(jīng)所述導(dǎo)冷板和所述導(dǎo)冷條進(jìn)行交換。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述導(dǎo)冷板為板狀弧形結(jié)構(gòu),或環(huán)形結(jié)構(gòu);所述導(dǎo)冷板的外側(cè)邊緣與所述第一線圈端板的外側(cè)邊緣平齊設(shè)置。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述導(dǎo)冷線圈的數(shù)量設(shè)置為多個(gè),所述筒體的外表面和多個(gè)所述導(dǎo)冷圈之間形成有繞線槽,所述超導(dǎo)線圈繞設(shè)于所述繞線槽內(nèi),且所述超導(dǎo)線圈的兩側(cè)邊緣均接觸于所述導(dǎo)冷線圈。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述超導(dǎo)磁體系統(tǒng)包括:緊固件,穿設(shè)于所述導(dǎo)冷線圈、所述第一線圈端板和所述第二線圈端板;限位件,套設(shè)于所述緊固件上,且所述限位件連接貼合于所述導(dǎo)冷線圈、所述第一線圈端板和所述第二線圈端板,以限制所述繞線槽的寬度。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述超導(dǎo)磁體系統(tǒng)包括:第一拉桿組件,連接于所述密封空腔的底部和所述第二線圈端板之間;第二拉桿組件,穿設(shè)于所述導(dǎo)冷線圈、所述第一線圈端板和所述第二線圈端板,且所述第二拉桿組件連接于所述密封空腔的頂部,所述第一拉桿組件和所述第二拉桿組件用于限制所述超導(dǎo)磁體與所述密封空腔的內(nèi)壁相接觸。
本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述第二拉桿組件穿設(shè)于所述導(dǎo)冷板;所述第一拉桿組件包括拉桿和兩個(gè)座體,所述拉桿轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于兩個(gè)所述座體之間,兩個(gè)所述座體分別連接于所述第二線圈端板和所述密封空腔的底部。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江西聯(lián)創(chuàng)光電超導(dǎo)應(yīng)用有限公司;江西聯(lián)創(chuàng)光電科技股份有限公司,未經(jīng)江西聯(lián)創(chuàng)光電超導(dǎo)應(yīng)用有限公司;江西聯(lián)創(chuàng)光電科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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