[發明專利]一種用于氣相色譜分析法分析氫同位素的低溫控制裝置有效
| 申請號： | 202011620744.5 | 申請日： | 2020-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN112834668B | 公開（公告）日： | 2022-08-19 |
| 發明（設計）人： | 任英;武超;胡石林;呂衛星;李樂斌;劉麗飛;劉艷 | 申請（專利權）人： | 中國原子能科學研究院 |
| 主分類號： | G01N30/54 | 分類號： | G01N30/54 |
| 代理公司： | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 任曉航;屈獻莊 |
| 地址： | 102413 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 色譜 分析 氫同位素 低溫 控制 裝置 | ||
1.一種用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，包括制冷機構、冷頭套件、色譜柱和色譜儀；所述色譜儀與所述色譜柱連接；所述制冷機構的冷頭與所述色譜柱連接以提供冷源；所述色譜柱進行氣體組分分離；所述色譜柱安裝在所述冷頭套件中；
所述制冷機構包括冷水機和制冷機，所述冷水機通過管道和制冷機相連；
還包括真空結構，所述真空結構包括真空腔室和真空泵，所述色譜柱和冷頭套件設置在所述真空腔室中以提供降低漏熱；
所述制冷機為脈管式制冷機，所述冷頭套件為無氧銅材料制成的套管。
2.如權利要求1所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述真空泵通過波紋管與真空腔室相連。
3.如權利要求1所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述真空腔室與真空泵之間的管道上設置有隔離閥。
4.如權利要求1所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述真空腔室上設置有放氣閥。
5.如權利要求1所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述色譜柱通過連接管與色譜儀連接；所述連接管為兩根，分別連接所述色譜儀的進樣系統和檢測器。
6.如權利要求5所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述連接管為不銹鋼管材，柱徑和色譜柱相同。
7.如權利要求5所述的用于氣相色譜法分析氫同位素的低溫控制裝置，其特征在于，所述色譜柱和連接管通過金屬接頭連接。
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