[發(fā)明專利]一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的邊耦合腔測(cè)量裝置及邊耦合腔測(cè)量方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011618129.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112763795B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊譽(yù);楊京鶴
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)原子能科學(xué)研究院
• 主分類號(hào): G01R23/02
• 分類號(hào): G01R23/02
• 代理公司: 北京市創(chuàng)世宏景專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11493
• 代理人: 王鵬鑫

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的邊耦合腔測(cè)量裝置，包括：網(wǎng)絡(luò)分析儀、測(cè)量部和電纜。其中，所述測(cè)量部包括主體和同軸線；所述主體為形成有凹槽的銅管；所述同軸線的一端設(shè)有磁耦合環(huán)；所述同軸線位于所述主體中，且所述磁耦合環(huán)位于所述凹槽中；所述同軸線的另一端設(shè)有同軸射頻接頭；所述同軸射頻接頭通過(guò)所述電纜與所述網(wǎng)絡(luò)分析儀連接。本發(fā)明的技術(shù)方案通過(guò)主體上的凹槽以及位于凹槽中的磁耦合環(huán)，既可以實(shí)現(xiàn)將待測(cè)邊耦合腔兩側(cè)的加速腔完全短路，又可以為微波信號(hào)的激勵(lì)和接收裝置留出了空間，從而可以準(zhǔn)確地獲取邊耦合腔的測(cè)試結(jié)果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及加速器技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的邊耦合腔測(cè)量裝置及邊耦合腔測(cè)量方法。

背景技術(shù)

耦合腔加速結(jié)構(gòu)是一種質(zhì)子直線加速器，用于將質(zhì)子束從幾十MeV加速到幾百M(fèi)eV的能量。耦合腔加速結(jié)構(gòu)一般包括多個(gè)加速腔、邊耦合腔、橋式耦合器和端耦合腔。在耦合腔加速結(jié)構(gòu)中，相鄰兩個(gè)加速腔之間通過(guò)一個(gè)邊耦合腔連通。為了使得微波能夠通過(guò)邊耦合腔的傳遞進(jìn)入到每個(gè)加速腔中并在各加速腔中建立設(shè)計(jì)的加速電場(chǎng)，加速腔和邊耦合腔的腔體頻率等參數(shù)需要符合設(shè)計(jì)要求，因此，在耦合腔加速結(jié)構(gòu)使用前，需要對(duì)耦合腔加速結(jié)構(gòu)中各腔體的頻率等參數(shù)進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)試，并依據(jù)測(cè)試結(jié)果對(duì)腔體進(jìn)行調(diào)諧，從而使各腔體滿足設(shè)計(jì)要求。

相關(guān)技術(shù)中針對(duì)耦合腔加速結(jié)構(gòu)中腔體的測(cè)試和調(diào)諧，主要是通過(guò)活塞探針?lè)āＨ欢钊结樂(lè)ㄖ饕m用于各個(gè)腔體處在同一軸線上情況。對(duì)于耦合腔加速結(jié)構(gòu)中的邊耦合腔，由于邊耦合腔和加速腔未處于同一軸線，因此，相關(guān)技術(shù)中的活塞探針?lè)y以得到邊耦合腔的準(zhǔn)確測(cè)試結(jié)果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的邊耦合腔測(cè)量裝置及邊耦合腔測(cè)量方法，以準(zhǔn)確地獲取邊耦合腔的測(cè)試結(jié)果。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的邊耦合腔測(cè)量裝置，包括：網(wǎng)絡(luò)分析儀、測(cè)量部和電纜。其中，所述測(cè)量部包括主體和同軸線；所述主體為形成有凹槽的銅管；所述同軸線的一端設(shè)有磁耦合環(huán)；所述同軸線位于所述主體中，且所述磁耦合環(huán)位于所述凹槽中；所述同軸線的另一端設(shè)有同軸射頻接頭；所述同軸射頻接頭通過(guò)所述電纜與所述網(wǎng)絡(luò)分析儀連接。

進(jìn)一步地，所述測(cè)量部還包括介質(zhì)；所述介質(zhì)位于所述主體中；所述同軸線固定于所述介質(zhì)中。

進(jìn)一步地，所述介質(zhì)采用聚四氟乙烯。

進(jìn)一步地，所述主體包括第一延伸部、第二延伸部和第三延伸部；所述第三延伸部位于所述第一延伸部和所述第二延伸部之間并將所述第一延伸部和所述第二延伸部連接；所述凹槽位于所述第一延伸部和所述第二延伸部之間對(duì)應(yīng)于所述第三延伸部。

進(jìn)一步地，所述第一延伸部包括與所述第二延伸部相鄰的第一軸向端面；所述第二延伸部包括與所述第一延伸部相鄰的第二軸向端面；所述凹槽位于所述第一軸向端面和所述第二軸向端面之間。

進(jìn)一步地，所述第三延伸部包括弧面和與所述弧面連接的頂平面；所述弧面與所述第一延伸部的外表面和所述第二延伸部的外表面位于相同的圓周面上；所述頂平面位于所述第一軸向端面和所述第二軸向端面之間，并分別與所述第一軸向端面和所述第二軸向端面連接；所述凹槽由所述頂平面、所述第一軸向端面和所述第二軸向端面所圍成。

進(jìn)一步地，所述頂平面垂直于所述第一軸向端面和所述第二軸向端面。

進(jìn)一步地，所述第三延伸部還包括自所述頂平面向所述第三延伸部的內(nèi)部凹陷的溝槽；所述磁耦合環(huán)位于所述凹槽中并位于所述溝槽的上方或內(nèi)部。

進(jìn)一步地，所述介質(zhì)填充在所述第一延伸部和所述第二延伸部?jī)?nèi)；所述同軸線穿設(shè)在位于所述第一延伸部中的所述介質(zhì)內(nèi)。

進(jìn)一步地，位于所述第一延伸部中的所述介質(zhì)內(nèi)形成由通孔。

進(jìn)一步地，所述主體在第一方向上的長(zhǎng)度至少要大于耦合腔加速結(jié)構(gòu)中沿著所述第一方向連接的三個(gè)加速腔在所述第一方向上的長(zhǎng)度。