[發明專利]一種實驗臺座反力墻暗龕

有效

• 申請號: 202011616662.3
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112452381B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 李國強;郭春杰;游志忠;張新;史航;王慶付;杜彬
• 申請（專利權）人: 北京城建六建設集團有限公司
• 主分類號: B01L9/02
• 分類號: B01L9/02
• 代理公司: 北京中建聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 11004
• 代理人: 李聚

1.一種實驗臺座反力墻暗龕，包括底座（1）和相對垂直的第一反力墻（2）與第二反力墻（9），其特征在于，所述第一反力墻（2）和第二反力墻（9）放置于底座（1）頂部兩邊側，且底座（1）靠近第一反力墻（2）和第二反力墻（9）垂直方向的頂部邊側外壁均設置有支撐板（7），每個支撐板（7）的頂部外壁均澆筑有同一個試驗臺座（3），所述第一反力墻（2）、第二反力墻（9）和試驗臺座（3）相對外壁開有等距離分布的加載孔（5），底座（1）頂部外壁設置有等距離分布的肋墻（8），且每個肋墻（8）頂部外壁均開有等距離分布的導槽（10），每個肋墻（8）靠近相鄰兩個導槽（10）之間的頂部外壁開有兩組預留槽，且每個肋墻（8）的一側外壁均開有三個導孔（11），每個預留槽的內部均澆筑有三個以上的鋼板（13）和角鋼（14），且每組鋼板（13）和角鋼（14）形成固定支架，每個固定支架內分別設置有三孔和四孔的暗龕（12）；

每個所述暗龕（12）頂部均開有測試孔，每個鋼板（13）的頂部外壁均開有預留孔（15），且測試孔、預留孔（15）和加載孔（5）孔徑相同；

每個所述預留槽兩側內壁均開有滑槽（19），且每個預留槽靠近滑槽（19）底端內壁均開有限位槽（18），通過所述滑槽（19）和所述限位槽（18）的配合，有效保證了暗龕（12）在預留槽內的穩定性；

所述測試孔、預留孔（15）和加載孔（5）位于同一垂直線上。

2.根據權利要求1所述的一種實驗臺座反力墻暗龕，其特征在于，所述底座（1）一邊側的每兩個相鄰支撐板（7）相對外壁均設置有密閉板（6）。

3.根據權利要求1所述的一種實驗臺座反力墻暗龕，其特征在于，所述第一反力墻（2）和第二反力墻（9）一側外壁均開有等距離分布的窗口（4）。

4.根據權利要求1所述的一種實驗臺座反力墻暗龕，其特征在于，所述第一反力墻（2）和第二反力墻（9）分別由反力墻前墻、隔墻（16）和反力墻后墻（17）組成，且每個加載孔（5）均設置于反力墻前墻。

5.根據權利要求4所述的一種實驗臺座反力墻暗龕，其特征在于，所述隔墻（16）設置于反力墻前墻和反力墻后墻（17）之間，每個隔墻（16）靠近每個加載孔（5）處均開有固定槽，每個固定槽內均設置有暗龕（12）。

6.根據權利要求1所述的一種實驗臺座反力墻暗龕，其特征在于，所述滑槽（19）和限位槽（18）形成L型結構，每個預留槽靠近兩個限位槽（18）之間的底部內壁開有卡孔（20），每個卡孔（20）內設置有磁塊。