[發(fā)明專利]一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的端耦合腔測量裝置及端耦合腔測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011616416.8
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN112798873B
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊京鶴;楊譽
• 申請（專利權(quán)）人: 中國原子能科學(xué)研究院
• 主分類號: G01R27/28
• 分類號: G01R27/28;G01R23/02
• 代理公司: 北京市創(chuàng)世宏景專利商標代理有限責(zé)任公司 11493
• 代理人: 王鵬鑫

1.一種用于耦合腔加速結(jié)構(gòu)的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于，包括：

測量部(201)；和

網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)；

其中，所述測量部(201)包括主體(210)、耦合環(huán)(230)和同軸線(250)；所述主體(210)設(shè)有穿孔(212)；所述耦合環(huán)(230)設(shè)置在所述穿孔(212)中；所述同軸線(250)的一端穿設(shè)在所述穿孔(212)中，并與所述耦合環(huán)(230)連接；所述同軸線(250)的另一端延伸至所述主體(210)外部并與所述網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)連接；

將所述端耦合腔測量裝置(200)的主體(210)置于橋式耦合器的中心腔體與端耦合腔之間的連接槽口中，并令所述耦合環(huán)(230)一側(cè)位于所述端耦合腔；

將所述端耦合腔測量裝置(200)的同軸線(250)與所述端耦合腔測量裝置(200)的網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)連接；

調(diào)節(jié)所述網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)的參數(shù)，測量單端口反射系數(shù)S11，并獲取所述單端口反射系數(shù)S11對應(yīng)的谷值作為所述端耦合腔的諧振頻率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于：所述主體(210)采用金屬制成，并呈彎曲條狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于：所述穿孔(212)貫穿所述主體(210)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于：所述同軸線(250)與所述穿孔(212)之間為緊配合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于：所述網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)為具備反射參數(shù)測量功能的儀器。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的端耦合腔測量裝置(200)，其特征在于：所述網(wǎng)絡(luò)分析儀(230)為微波矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀。

7.一種采用根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的端耦合腔測量裝置(200)對耦合腔加速結(jié)構(gòu)中與橋式耦合器相連接的端耦合腔進行測試的端耦合腔測量方法。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的端耦合腔測量方法，其特征在于：還包括：

判斷獲取到的所述端耦合腔的諧振頻率與設(shè)計頻率之間的差值是否大于預(yù)設(shè)閾值；

若獲取到的所述端耦合腔的諧振頻率與設(shè)計頻率之間的差值大于預(yù)設(shè)閾值，則修正所述端耦合腔的尺寸后，然后重復(fù)上述步驟直至獲取到的所述端耦合腔的諧振頻率與所述設(shè)計頻率之間的差值小于所述預(yù)設(shè)閾值。