[發明專利]一種太赫茲成像方法及太赫茲成像雷達

在審

• 申請號: 202011615657.0
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN112612025A
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 宋建明
• 申請（專利權）人: 宋建明
• 主分類號: G01S13/89
• 分類號: G01S13/89;G01S7/02
• 代理公司: 深圳市漢唐知識產權代理有限公司 44399
• 代理人: 韋鰲

1.一種太赫茲成像方法，其特征在于：它包括步驟

S1、微波輻射信號源產生的微波輻射電磁波經聚焦反射面照射到被探測的目標物體；

S2、微波輻射電磁波照射到被探測目標物體之后，經目標物體對微波輻射電磁波反射后，其中一部分的物體反射微波信號到達第一拋物面；

S3、再經反射聚焦后到達微波接收聚焦第二拋物面再次聚焦，成為一幅攜帶微波能量強度的微波圖像；

S4、微波圖像經微波輻射成像處理模組處理之后轉換成為電子圖像信號；

S5、電子圖像信號經微波圖像輸出信號線傳輸給微波圖像顯示設備；

S6、調整微波輻射成像處理模組與第二拋物面距離，重復步驟S1-S5，用于觀察到目標不同深度的微波圖像。

2.一種太赫茲成像雷達，其特征在于：它包括依次設置的微波輻射信號源、聚焦反射面、第二拋物面、微波輻射成像處理模組和第一拋物面，所述微波輻射成像處理模組電連接微波圖像顯示設備，調節所述微波輻射成像處理模組與第二拋物面之間的距離用于觀察到目標不同深度的微波圖像，所述微波輻射信號源產生的微波輻射電磁波經聚焦反射面照射到目標物體上再反射到第一拋物面，所述第一拋物面聚焦反射目標物體的物體反射微波信號到第二拋物面，所述第二拋物面將物體反射微波信號聚焦到微波輻射成像處理模組上，所述微波輻射成像處理模組用于顯示和存儲的電子圖像信號。

3.如權利要求2所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述微波輻射成像處理模組包括微波圖像探測面保護層、微波輻射能量交換層、熱輻射焦平面陣列探測保護層、輻射焦平面陣列探測陣列、熱輻射電信號讀取、熱像處理及圖像編碼系統。

4.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述微波圖像探測面保護層為絕緣材質，所述微波圖像探測面保護層用于讓微波信號通過同時保護微波輻射能量交換層，所述微波圖像探測面保護層與微波輻射能量交換層之間設置有長波紅外反射層，所述長波紅外反射層能夠透過微波輻射，所述長波紅外反射層用于提高能量轉換后的熱探測靈敏度。

5.如權利要求4所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述微波輻射能量交換層為極性分子材質，所述微波輻射能量交換層用于吸收微波電磁輻射能量并轉變成熱能且將熱能散射。

6.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述熱輻射焦平面陣列探測保護層用于隔斷微波輻射能量交換層與熱輻射焦平面探測陣列之間的相互影響，所述熱輻射焦平面陣列探測保護層用于禁止微波電磁輻射透過。

7.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述輻射焦平面陣列探測陣列用于將熱輻射信號轉換成電信號。

8.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述熱輻射電信號讀取用于讀取熱電轉換后的電信號。

9.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述熱像處理及圖像編碼系統用于將已經讀取的熱電信號進行處理。

10.如權利要求3所述的一種太赫茲成像雷達，其特征在于：所述微波輻射成像處理模組與第二拋物面的距離為軸向距離。