[發明專利]在光學樣本分析中改進的自動聚焦功能在審
| 申請號: | 202011613363.4 | 申請日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN113064266A | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發明(設計)人: | 西蒙·普林斯;達尼洛·孔代洛;文森特·謝;克里薩達·彭西里;約翰·奧肖內西 | 申請(專利權)人: | 伊魯米那股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B21/24 | 分類號: | G02B21/24;G02B5/04;G02B7/09;G02B21/06;G02B27/42 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 韓輝峰;楊明釗 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 樣本 分析 改進 自動 聚焦 功能 | ||
1.一種方法,包括:
使用物鏡和第一反射表面將第一自動聚焦光導向傳感器,所述第一自動聚焦光從基板的第一表面反射;
防止第二自動聚焦光到達所述傳感器,所述第二自動聚焦光從所述基板的第二表面反射;以及
使用所述物鏡和第二反射表面將發射光導向所述傳感器,所述發射光源自所述基板處的樣本。
2.根據權利要求1所述的方法,還包括將所述第一自動聚焦光導向所述第二反射表面,所述第二反射表面對所述第一自動聚焦光是透明的,其中,所述第一反射表面相對于所述第一自動聚焦光的行進方向被定位于所述第二反射表面之后。
3.根據權利要求2所述的方法,還包括還將所述第二自動聚焦光導向所述第二反射表面,所述第二反射表面對所述第二自動聚焦光是透明的,其中,所述第一反射表面對所述第二自動聚焦光是透明的,以防止所述第二自動聚焦光到達所述傳感器。
4.根據權利要求1所述的方法,其中,所述第一反射表面被定位于第一反射部件上,其中,所述第二反射表面被定位于第二反射部件上,并且其中,所述第一反射部件與所述第二反射部件分離,所述方法還包括獨立于所述第二反射部件的取向來定向所述第一反射部件。
5.根據權利要求4所述的方法,其中,定向所述第一反射部件包括獨立于所述發射光在所述傳感器上的定位來操控在所述傳感器上的所述第一自動聚焦光。
6.根據權利要求1所述的方法,還包括:
使用側向位移棱鏡形成彼此偏離預定角度的左自動聚焦光和右自動聚焦光,其中,所述第一自動聚焦光包括來自所述左自動聚焦光從所述基板的第一表面的反射的第一左自動聚焦光,其中,所述第一自動聚焦光還包括來自所述右自動聚焦光從所述基板的第一表面的反射的第一右自動聚焦光,其中,所述第二自動聚焦光包括來自所述左自動聚焦光從所述基板的第二表面的反射的第二左自動聚焦光,以及其中,所述第二自動聚焦光還包括來自所述右自動聚焦光從所述基板的第二表面的反射的第二右自動聚焦光;
其中,將所述第一自動聚焦光導向所述傳感器包括使用所述物鏡和所述第一反射表面將所述第一左自動聚焦光和所述第一右自動聚焦光導向所述傳感器;以及
其中,防止所述第二自動聚焦光到達所述傳感器包括防止所述第二左自動聚焦光和所述第二右自動聚焦光到達所述傳感器。
7.根據權利要求6所述的方法,其中,所述基板還包括第三表面,其中,所述左自動聚焦光在從所述第三表面反射時形成第三左自動聚焦光,其中,所述右自動聚焦光在從所述第三表面反射時形成第三右自動聚焦光,所述方法還包括使用所述物鏡和所述第一反射表面將所述第三左自動聚焦光和所述第三右自動聚焦光導向所述傳感器。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法,還包括基于所述第一自動聚焦光調節在所述物鏡和所述基板之間的距離。
9.一種系統,包括:
基板,所述基板保持用于分析的樣本;
傳感器;
物鏡;
第一反射表面,所述第一反射表面用于將第一自動聚焦光導向所述傳感器,所述第一自動聚焦光從所述基板的第一表面反射并通過所述物鏡傳送;
第二反射表面,所述第二反射表面用于將發射光導向所述傳感器,所述發射光源自所述樣本并通過所述物鏡傳送;以及
防止第二自動聚焦光到達所述傳感器的結構,所述第二自動聚焦光從所述基板的第二表面反射并通過所述物鏡傳送。
10.根據權利要求9所述的系統,其中,所述第一反射表面相對于所述第一自動聚焦光的行進方向被定位于所述第二反射表面之后,以及其中,所述第二反射表面對所述第一自動聚焦光是透明的。
11.根據權利要求10所述的系統,其中,所述第一反射表面被定位于第一反射部件上,其中,所述第二反射表面被定位于第二反射部件上,并且其中,所述第一反射部件與所述第二反射部件分離。
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