[發(fā)明專利]一種矢量圖繪制方法、裝置、設備及存儲介質在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011609594.8 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN114693840A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 黃譽;葉漢華 | 申請(專利權)人: | TCL商用信息科技(惠州)有限責任公司;深圳市華勝軟件技術有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/60 | 分類號: | G06T11/60;G06T11/40 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 朱陽波 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市仲愷高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 矢量圖 繪制 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
1.一種矢量圖繪制方法,其特征在于,所述矢量圖繪制方法包括以下步驟:
獲取繪圖指令,并基于所述繪圖指令生成矢量圖編輯模式;
當所述矢量圖編輯模式為繪制模式,通過設置繪圖元素繪制目標矢量圖;
當所述矢量圖編輯模式為修改模式,修改所述目標矢量圖。
2.如權利要求1所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述基于所述繪圖指令生成矢量圖編輯模式的步驟包括:
當所述繪圖指令為新建制圖指令,生成繪制模式;
當所述繪圖指令為修改矢量圖指令,生成修改模式。
3.如權利要求1所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述繪圖元素包括繪圖尺寸和繪圖填充色,
所述當所述矢量圖編輯模式為繪制模式,通過設置繪圖元素繪制目標矢量圖的步驟包括:
當所述矢量圖編輯模式為繪制模式,獲取用戶選擇的長邊尺寸和短邊尺寸,生成與所述長邊尺寸和所述短邊尺寸相符的第一圖紙;
將所述第一圖紙以橫向或縱向放置于顯示界面,并將用戶選擇的繪圖填充色渲染于所述第一圖紙;
將渲染完畢后的圖紙作為目標圖紙,基于所述目標圖紙繪制目標矢量圖。
4.如權利要求3所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述繪圖元素包括點坐標和點連線類型,
所述將渲染完畢后的圖紙作為目標圖紙,基于所述目標圖紙繪制目標矢量圖的步驟包括:
獲取用戶輸入的起始點和終點在所述圖紙中的點坐標,及所述起始點和所述終點之間的點連線類型,所述點連線類型包括直線、圓弧曲線和貝塞爾曲線;
通過所述點連線類型確定所述起始點和所述終點之間的連接線,并基于所述連接線得到目標矢量圖。
5.如權利要求4所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述通過所述點連線類型確定所述起始點和所述終點之間的連接線,并基于所述連接線得到目標矢量圖還包括:
根據(jù)預設線條顏色和預設粗細修飾所述連接線,得到修飾后的連接線,并將所述修飾后的連接線作為目標連接線;
通過所述目標連接線連接所述起始點和所述終點,得到目標矢量圖。
6.如權利要求5所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述當所述矢量圖編輯模式為修改模式,修改所述目標矢量圖的步驟包括:
當所述矢量圖編輯模式為修改模式,確定用戶輸入的所述目標矢量圖中的待刪除圖像部分;
基于擦除功能將所述待刪除圖像部分擦除,并將所述修改模式轉換成所述繪制模式,以修改所述目標矢量圖。
7.如權利要求1所述的矢量圖繪制方法,其特征在于,所述矢量圖繪制方法的步驟包括:
獲取第一待閉合點和第二待閉合點的點坐標;
基于點閉合功能,合成所述第一待閉合點和所述第二待閉合點,得到閉合點,其中所述閉合點的點坐標與所述第二待閉合點的點坐標相同。
8.一種矢量圖繪制裝置,其特征在于,所述矢量圖繪制裝置包括:
獲取模塊,用于獲取繪圖指令;
生成模塊,用于基于所述繪圖指令生成矢量圖編輯模式;
繪制模塊,用于當所述矢量圖編輯模式為繪制模式,通過設置繪圖元素繪制目標矢量圖;
修改模塊,用于當所述矢量圖編輯模式為修改模式,修改所述目標矢量圖。
9.一種矢量圖繪制設備,其特征在于,所述設備包括存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的矢量圖繪制程序,所述矢量圖繪制程序被所述處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權利要求1至7中任一項所述的矢量圖繪制方法的步驟。
10.一種計算機存儲介質,其特征在于,所述計算機存儲介質上存儲有矢量圖繪制程序,所述矢量圖繪制程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權利要求1至7中任一項所述的矢量圖繪制方法的步驟。
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