[發明專利]真空系統及使用該真空系統的浸沒式光刻機

有效

• 申請號: 202011608108.0
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN112684675B
• 公開（公告）日: 2023-02-21
• 發明（設計）人: 嵇佳;李元;杜亮;張穎;徐寧;付婧媛;付新
• 申請（專利權）人: 浙江啟爾機電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 朱亞冠

1.一種真空系統，其特征在于：包括氣液分離罐、真空源；氣液分離罐的上部引出第一流路，下部引出第二流路，第一流路和第二流路匯合連通后與真空源連通；第一流路上具有第一控制閥；氣液分離罐還與真空壓力的輸出端連接；所述真空源允許抽排氣液兩相流。

2.權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述真空源包括液環真空泵。

3.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述氣液分離罐上設置壓力傳感器，壓力傳感器監測氣液分離罐內的壓力并將測得的壓力信號傳遞至控制器，控制器向所述第一控制閥發出信號調節第一流路中流體的流速，從而調節氣液分離罐內的壓力。

4.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述第二流路上具有第二控制閥，第二控制閥是手動閥。

5.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述第二流路上具有第二控制閥，根據氣液分離罐內的壓力或者第二流路內的壓力調節第二控制閥。

6.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述第一控制閥是具有壓力反饋調節功能的真空調節器。

7.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：所述第二流路上具有節流器。

8.如權利要求1所述的一種真空系統，其特征在于：還包括緩沖罐，所述第一流路和第二流路分別接入緩沖罐，緩沖罐底部引出流路與真空源連通，第一流路和第二流路中的流體在緩沖罐中匯集，再經由緩沖罐底部的流路被真空源抽排。

9.采用權利要求1至8任意權利要求所述的真空系統的浸沒式光刻機，其特征在于：從襯底與工件臺之間的間隙中抽排氣液兩相流，氣液兩相流經過初級氣液分離器處理后，主要包含氣相的流體進入所述真空系統的氣液分離罐。

10.采用權利要求1至8任意權利要求所述的真空系統的浸沒式光刻機，其特征在于：從襯底與工件臺之間的間隙中抽排氣液兩相流，將所述氣液兩相流導入所述真空系統的氣液分離罐。