[發(fā)明專利]一種清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011606846.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN112808639B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何鳴;張潔;王澤隆;林武慶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B08B1/00
• 分類號(hào): B08B1/00;B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 嚴(yán)誠

本發(fā)明公開了一種清洗裝置，涉及晶體清洗技術(shù)領(lǐng)域。該清洗裝置包括儲(chǔ)液箱、清洗箱和清洗毛刷。儲(chǔ)液箱用于儲(chǔ)存清洗液，清洗箱放置于儲(chǔ)液箱內(nèi)，清洗箱開設(shè)有進(jìn)液孔，進(jìn)液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活動(dòng)地安裝于清洗箱上，清洗毛刷用于對(duì)放入清洗箱內(nèi)的晶體進(jìn)行刷洗。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的清洗裝置由于采用了開設(shè)有進(jìn)液孔的清洗箱以及可活動(dòng)地安裝于清洗箱上的清洗毛刷，所以能夠方便快捷地對(duì)晶體進(jìn)行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能夠提高工作人員的舒適度，避免晶體掉落發(fā)生磕碰的風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶體清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種清洗裝置。

背景技術(shù)

目前，碳化硅是重要的第三代半導(dǎo)體材料，它具有寬禁帶、高熱導(dǎo)率、高擊穿場(chǎng)強(qiáng)、高載流子飽、高抗輻射能力及良好的化學(xué)穩(wěn)定性等的優(yōu)越特性，因其本身具有的特性，其在新能源汽車、汽車燈照、通用照明、電動(dòng)車、5G通訊應(yīng)用等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用市場(chǎng)。

現(xiàn)在的碳化硅晶體在晶棒端面研磨前需要用蠟粘接晶體與治具，加工結(jié)束后需要在溫度為90度的去蠟液中從平邊治具上卸下晶體，然后對(duì)晶體上的殘余蠟進(jìn)行擦拭清洗，接著將晶體放入清水內(nèi)再次進(jìn)行擦拭清洗，最后將晶體取出并擦干。在此過程中，工作人員需要全程佩戴隔熱手套，然而隔熱手套的厚度較厚，不利于進(jìn)行操作，佩戴隔熱手套會(huì)影響清洗效率以及工作人員的舒適度，并且還存在晶體從手中掉落發(fā)生磕碰的風(fēng)險(xiǎn)。

有鑒于此，設(shè)計(jì)制造出一種清洗效率高的清洗裝置特別是在碳化硅晶體生產(chǎn)中顯得尤為重要。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種清洗裝置，能夠方便快捷地對(duì)晶體進(jìn)行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能夠提高工作人員的舒適度，避免晶體掉落發(fā)生磕碰的風(fēng)險(xiǎn)。

本發(fā)明是采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。

一種清洗裝置，包括儲(chǔ)液箱、清洗箱和清洗毛刷，儲(chǔ)液箱用于儲(chǔ)存清洗液，清洗箱放置于儲(chǔ)液箱內(nèi)，清洗箱開設(shè)有進(jìn)液孔，進(jìn)液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活動(dòng)地安裝于清洗箱上，清洗毛刷用于對(duì)放入清洗箱內(nèi)的晶體進(jìn)行刷洗。

進(jìn)一步地，清洗箱包括頂壁、周壁和底壁，頂壁通過周壁與底壁固定連接，頂壁開設(shè)有開口，開口用于供晶體放入，清洗毛刷與頂壁活動(dòng)連接，進(jìn)液孔開設(shè)于周壁和/或底壁上。

進(jìn)一步地，頂壁開設(shè)有滑槽，清洗毛刷與滑槽滑動(dòng)配合，清洗毛刷能夠沿滑槽的延伸方向滑動(dòng)，以對(duì)晶體進(jìn)行刷洗。

進(jìn)一步地，清洗毛刷包括手柄、連接桿和毛刷本體，手柄通過連接桿與毛刷本體固定連接，連接桿與滑槽滑動(dòng)配合，手柄和毛刷本體相對(duì)設(shè)置于頂壁的兩側(cè)。

進(jìn)一步地，連接桿包括滑動(dòng)段和連接段，滑動(dòng)段與連接段相互垂直，且固定連接，滑動(dòng)段與滑槽滑動(dòng)配合，連接段與毛刷本體固定連接。

進(jìn)一步地，手柄、連接桿和滑槽的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)滑槽相對(duì)設(shè)置于頂壁的兩側(cè)，每個(gè)手柄與一個(gè)連接桿固定連接，每個(gè)連接桿與一個(gè)滑槽滑動(dòng)配合。

進(jìn)一步地，進(jìn)液孔的數(shù)量為多個(gè)，其中，一部分進(jìn)液孔呈矩形陣列地分布于周壁上，另一部分進(jìn)液孔呈矩形陣列地分布于底壁上。

進(jìn)一步地，清洗裝置還包括治具，治具包括臺(tái)階部和粘接部，臺(tái)階部與粘接部固定連接，臺(tái)階部的橫截面積大于粘接部的橫截面積，粘接部用于帶動(dòng)粘接于粘接部上的晶體伸入開口，臺(tái)階部用于與頂壁抵持。

進(jìn)一步地，頂壁開設(shè)有限位槽，臺(tái)階部伸入限位槽，且與限位槽的底壁抵持，限位槽用于對(duì)臺(tái)階部進(jìn)行限位。

進(jìn)一步地，清洗裝置還包括軟墊，軟墊固定安裝于清洗箱內(nèi)，軟墊用于承載晶體。

本發(fā)明提供的清洗裝置具有以下有益效果：