[發明專利]反射膜及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 202011605840.2 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112731576B | 公開(公告)日: | 2023-01-31 |
| 發明(設計)人: | 金亞東;姚志賢;周玉波;朱正平 | 申請(專利權)人: | 寧波長陽科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 杭州華進聯浙知識產權代理有限公司 33250 | 代理人: | 李麗華 |
| 地址: | 315031 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種反射膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供反射膜坯件,所述反射膜坯件包括兩個支撐層以及設置于兩個支撐層之間的反射層;
所述支撐層的材料包括第一聚酯樹脂、抗靜電劑及分散于第一聚酯樹脂中的第一無機粒子,所述第一聚酯樹脂選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一種,所述抗靜電劑選自陰離子型抗靜電劑、非離子型抗靜電劑及兩性離子型抗靜電劑中的至少一種,所述第一無機粒子選自碳酸鈣、二氧化硅、二氧化鈦及硫酸鋇中的至少一種;
所述反射層的材料選自第二聚酯樹脂、聚烯烴類樹脂及分散于第二聚酯樹脂中的第二無機粒子,所述第二聚酯樹脂選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一種,所述第二無機粒子選自二氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣及氧化鋁中的至少一種;
所述反射膜坯件的厚度為100μm~300μm;
控制所述反射膜坯件的表面溫度為70℃~140℃,對所述反射膜坯件加熱至其軟化;
將加熱后的反射膜坯件置于50℃~130℃的模具內成型、脫模,制備反射膜;所述反射膜包括底面以及圍繞所述底面設置的側壁,所述底面為長方形,所述側壁有四個,四個所述側壁均為等腰梯形,且四個側壁圍成的結構的開口尺寸隨遠離所述底面逐漸增大,四個所述側壁相鄰的兩個分別為第一側壁和第二側壁,所述第一側壁的上底邊長為200mm~1200mm,下底邊長為250mm~1700mm,所述第二側壁的上底邊長為100mm~1000mm,下底邊長為150mm~1100mm,所述第一側壁和所述第二側壁的下底邊與腰之間的角度≥15°且≤30°。
2.根據權利要求1所述的反射膜的制備方法,其特征在于,對所述反射膜坯件進行加熱時,控制所述反射膜坯件的表面溫度為70℃~100℃,加熱時間為10s~20s。
3.根據權利要求1所述的反射膜的制備方法,其特征在于,所述反射膜的厚度為0.1mm~0.55mm,深度為1mm~30mm。
4.根據權利要求1~3任一項所述的反射膜的制備方法,其特征在于,所述支撐層的材料中第一聚酯樹脂的質量百分含量為97%~97.9%,第一無機粒子的質量百分含量為1%~3%,抗靜電劑的質量百分含量為0.1%~1%。
5.根據權利要求1~3任一項所述的反射膜的制備方法,其特征在于,所述反射層的材料中第二聚酯樹脂的質量百分含量為60%~80%,所述第二無機粒子的質量百分含量為5%~20%,所述聚烯烴類樹脂的質量百分含量為5%~20%。
6.一種反射膜,其特征在于,其采用如權利要求1~5任一項所述的反射膜的制備方法制得。
7.一種直下型背光模組,其特征在于,包括權利要求6所述的反射膜及光源,所述光源位于所述反射膜的反射面。
8.一種顯示器件,其特征在于,包括框架、顯示面板及權利要求7所述的直下型背光模組,所述顯示面板和直下型背光模組安裝于所述框架上,所述顯示面板位于所述直下型背光模組的出光側。
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