[發明專利]用于紫外線光刻的玻璃陶瓷及其制造方法

在審

• 申請號: 202011604055.5
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN112759278A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 拉爾夫·霍夫曼;馬耶德·A·福阿德;卡拉·比斯利
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C03C17/30
• 分類號: C03C17/30;C03C10/00;C03C17/22;C03C17/245;C23C16/34;C23C16/40;G03F1/22;G03F7/20;H01L21/033
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種制造極紫外線掩模的方法，包含以下步驟：

沉積包括硅、氧和碳的平坦層于所述玻璃陶瓷基板上；及

通過對所述平坦層進行UV或熱處理形成硬化層，其中所述平坦層的所述UV或熱處理降低了產生會造成發生缺陷的顆粒的風險。

2.如權利要求1所述的方法，其中沉積所述平坦層包括形成具有低于0.6納米均方根的表面粗糙度的所述平坦層。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述玻璃陶瓷基板包括鋰鋁硅酸鹽。

4.一種集成式極紫外線掩模制造系統，包含：

真空腔室，所述真空腔室用以放置玻璃陶瓷基板于真空中；

第一沉積系統，所述第一沉積系統用以沉積包括硅、氧和碳的平坦層于所述玻璃陶瓷基板上方；

第二沉積系統，所述第二沉積系統用以沉積多層疊層于所述平坦層上，而無需將所述玻璃陶瓷基板從所述真空移除；

UV或熱處理系統，用以從所述平坦層形成硬化層，其中所述平坦層的UV或熱處理降低了產生會造成發生缺陷的顆粒的風險。

5.如權利要求4所述的系統，進一步包含：載具操縱系統，所述載具操縱系統用以將所述玻璃陶瓷基板定位在所述真空腔室內。

6.如權利要求4所述的系統，其中所述第一沉積系統用以沉積具有低于0.6納米均方根的表面粗糙度的所述平坦層。

7.一種極紫外線光刻掩模，包含：

玻璃陶瓷基板；

硬化層，所述硬化層具有100埃至10微米的層厚度，其中所述硬化層是通過硬化所述玻璃陶瓷基板上的包括硅、氧和碳的平坦層形成的，

其中通過對所述平坦層進行UV或熱處理來硬化所述硬化層，其中所述平坦層的所述UV或熱處理降低了產生會造成發生缺陷的顆粒的風險。

8.如權利要求7所述的極紫外線光刻掩模，其中所述玻璃陶瓷基板包括鋰鋁硅酸鹽。

9.如權利要求7所述的極紫外線光刻掩模，其中所述硬化層包括氧化硅。