[發明專利]一種浸沒流場的壓力測量裝置及壓力測量方法

在審

• 申請號: 202011602370.4
• 申請日: 2020-12-29
• 公開（公告）號: CN112684673A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 符文靜;王帥;熊永樂;徐文蘋;徐寧;付新
• 申請（專利權）人: 浙江啟爾機電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241
• 代理人: 林君勇

1.一種浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：包括殼體和多個壓力檢測器，殼體具有模擬浸沒光刻機中末端物鏡的外形和尺寸，殼體具有朝向襯底的鏡底面和朝向浸沒控制單元的鏡側面，鏡底面呈平面形狀，鏡側面呈傾斜環形柱面形狀；鏡底面具有開口，壓力檢測器的檢測面設置于所述開口內。

2.按照權利要求1所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述壓力檢測器的檢測面與鏡底面平齊。

3.按照權利要求1所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述的壓力檢測器采用感壓芯片，感壓芯片位于鏡底面上的測壓孔的朝向殼體內部的一端。

4.按照權利要求1所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述的壓力檢測器采用檢測面直徑小于或等于15mm的壓力傳感器。

5.按照權利要求3所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述的感壓芯片采用檢測面尺寸范圍為小于1.5mm×1.5mm的感應檢測面尺寸。

6.按照權利要求1所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述的浸沒控制單元具有允許曝光光束通過的中心通孔，曝光光束穿過浸沒控制單元中心通孔內部的浸沒流場，曝光光束穿過浸沒流場的范圍落入中心圍界的內部；所述壓力檢測器分別設置在中心圍界的中心和頂點處。

7.按照權利要求6所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：所述的中心圍界的邊的中點處設有壓力檢測器。

8.按照權利要求6所述的浸沒流場的壓力測量裝置，其特征在于：在距離中心通孔壁面5～22mm的范圍內設有壓力檢測器。

9.一種浸沒流場壓力測量裝置的壓力測量方法，其特征在于：包括如下檢測步驟

A1.將權利要求1～8之一所述的壓力測量裝置設置在浸沒控制單元的內側和襯底的上方，使壓力測量裝置、襯底和浸沒控制單元之間的形成相互位置關系與浸沒式光刻機中對應位置關系的相同；

A2.經浸沒控制單元的主注液口提供易溶氣體，經浸沒控制單元的主回收口和密封抽排口抽排易溶氣體，使易溶氣體保持流動一段時間，使易溶氣體流動填充壓力測量裝置和襯底之間的空間；

A3.經浸沒控制單元的主注液口提供浸沒液體，經主回收口和密封抽排口抽排浸沒液體；保持浸沒液體流動一段時間，使浸沒流場中可能存在的易溶氣體的氣泡完全溶解于浸沒液體中，保證壓力傳感器的檢測元件或者感壓芯片完全接觸浸沒液體；

A4.使用權利要求1～8之一所述的壓力檢測裝置測和記錄浸沒流場的壓力。

10.按照權利要求9所述的浸沒流場壓力測量裝置的壓力測量方法，其特征在于：所述的浸沒液體采用超純水，所述易溶氣體采用二氧化碳。