[發明專利]一種自動聚焦曝光方法在審
| 申請號： | 202011597740.X | 申請日： | 2020-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN112684670A | 公開（公告）日： | 2021-04-20 |
| 發明（設計）人： | 潘浩源 | 申請（專利權）人： | 中山新諾科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 伍傳松 |
| 地址： | 528400 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 自動 聚焦 曝光 方法 | ||
1.一種自動聚焦曝光方法，其特征在于，包括如下步驟：
S100、獲取光刻膠板(100)表面的平整數據；
S200、將所述平整數據中的每一個數值與設定的參考值進行比較，當所述平整數據中的某個數值與所述參考值差值的絕對值超過設定閾值時，使用過渡值代替該數值；當所述平整數據中的某個數值與所述參考值差值的絕對值未超過所述設定閾值時，保留該數值；
S300、根據步驟S200得到的新的平整數據，對所述光刻膠板(100)進行曝光。
2.根據權利要求1所述的自動聚焦曝光方法，其特征在于，步驟S100具體包括：
S101、使用距離傳感器(200)對所述光刻膠板(100)進行逐行測量；
S102、將步驟S101獲得的距離數據與曝光焦點的基準值相減得到所述光刻膠板(100)表面的平整數據。
3.根據權利要求2所述的自動聚焦曝光方法，其特征在于，步驟S102中所述基準值為正常聚焦時所述距離傳感器(200)到所述光刻膠板(100)的距離。
4.根據權利要求2所述的自動聚焦曝光方法，其特征在于，步驟S200中所述過渡值的計算步驟如下：
當該數值為每一行的第一個數值或者最后一個數值時，所述過渡值為該數值與所述基準值的平均值；
當該數值不是每一行的第一個數值和最后一個數值時，所述過渡值為該數值之前的數值與其之后的數值的平均值。
5.根據權利要求1所述的自動聚焦曝光方法，其特征在于，所述設定閾值為8微米。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中山新諾科技股份有限公司，未經中山新諾科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011597740.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種內科按壓止血裝置
- 下一篇：一種工廠化種植海鮮菇的霧化裝置
