[發(fā)明專利]極片活性物質(zhì)的清除方法及清除設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011595055.3 | 申請日： | 2020-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN112792006B | 公開（公告）日： | 2022-01-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 姜新軍;張劍;張小勇;陳雄木 | 申請（專利權(quán)）人： | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號： | B08B1/00 | 分類號： | B08B1/00;B08B5/02;B08B5/04;B08B7/00;B08B13/00 |
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| 地址： | 518118 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 活性 物質(zhì) 清除 方法 設(shè)備 | ||
1.一種極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，包括：
識別極片類型；
若所述極片為正極片，則通過激光對所述正極片在第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至預(yù)定厚度形成預(yù)留層，再通過物理清除法清除所述預(yù)留層以露出所述正極片在所述第一預(yù)清除區(qū)域的第一集流體；
若所述極片為負極片，則通過激光清除所述負極片在第二預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)以露出所述負極片在所述第二預(yù)清除區(qū)域的第二集流體。
2.如權(quán)利要求1所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述物理清除法為刷除法。
3.如權(quán)利要求1所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述通過物理清除法清除所述預(yù)留層以露出所述正極片在所述第一預(yù)清除區(qū)域的第一集流體之后，還包括：
通過粘除法對所述第一集流體進行除塵。
4.如權(quán)利要求1所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述通過激光對所述正極片在第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至預(yù)定厚度形成預(yù)留層包括：
在每次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄前，獲取所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度；
若所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度大于2.5倍的所述預(yù)定厚度，則通過至少兩次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層；
若所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度小于或等于2.5倍的所述預(yù)定厚度，則通過一次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層。
5.如權(quán)利要求4所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述獲取所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度包括：
所述預(yù)定厚度為15μm-25μm。
6.如權(quán)利要求4所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述獲取所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度包括：
根據(jù)所述正極片在所述第一預(yù)清除區(qū)域的灰度值估算所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度。
7.如權(quán)利要求4所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述若所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度大于2.5倍的所述預(yù)定厚度，則通過至少兩次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層，包括：
根據(jù)所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度及第一預(yù)定規(guī)則確定第一清除厚度值，所述第一預(yù)定規(guī)則包括所述第一清除厚度值小于或等于所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度與2倍的所述預(yù)定厚度之差；
根據(jù)所述第一清除厚度值作薄所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)。
8.如權(quán)利要求4所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述若所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度大于2.5倍的所述預(yù)定厚度，則通過至少兩次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層，包括：
根據(jù)所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度及第一預(yù)定規(guī)則確定第一清除厚度值，所述第一預(yù)定規(guī)則包括：所述第一清除厚度值與所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度正相關(guān)；根據(jù)所述第一清除厚度值作薄所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)。
9.如權(quán)利要求4所述極片活性物質(zhì)的清除方法，其特征在于，所述若所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度小于或等于2.5倍的所述預(yù)定厚度，則通過一次激光對所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層，包括：
根據(jù)所述預(yù)定厚度和所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)厚度及第一預(yù)定規(guī)則確定第二清除厚度值，所述第一預(yù)定規(guī)則包括所述第二清除厚度值在1至1.5倍的所述預(yù)定厚度之間；
根據(jù)所述第二清除厚度值將所述第一預(yù)清除區(qū)域的活性物質(zhì)作薄至所述預(yù)定厚度形成所述預(yù)留層。
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