[發(fā)明專利]一種鉻鎳合金濺射靶材及其制備方法與應用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011593891.8
• 申請日: 2020-12-29
• 公開（公告）號: CN112853283A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設計）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;李岢
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;B22F3/02;B22F3/14;B22F5/00;C22C27/06;C23C14/14
• 代理公司: 北京遠智匯知識產(chǎn)權代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

1.一種鉻鎳合金濺射靶材的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

(1)混合鉻粉與鎳粉，得到鉻鎳粉末；

(2)裝填并壓實步驟(1)所得鉻鎳粉末，得到鉻鎳生坯；

(3)將步驟(2)所得鉻鎳生坯進行850-1200℃的真空熱壓燒結(jié)處理，得到鉻鎳坯料；

(4)將步驟(3)所得鉻鎳坯料進行機加工，得到鉻鎳合金濺射靶材。

2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述鉻粉占鉻鎳粉末總質(zhì)量的60-70％；

優(yōu)選地，步驟(1)所述鉻粉的粒徑為1-5μm；

優(yōu)選地，步驟(1)所述鎳粉的粒徑為8-12μm。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述混合為加入介質(zhì)球進行干混；

優(yōu)選地，所述介質(zhì)球包括氧化鋯球；

優(yōu)選地，所述介質(zhì)球與鉻鎳粉末的質(zhì)量比為1:(8-12)；

優(yōu)選地，步驟(1)所述混合的時間為22-26h。

4.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述裝填的平面度≤5mm；

優(yōu)選地，步驟(2)所述壓實的平面度≤0.5mm。

5.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的制備方法，其特征在于，步驟(3)所述真空熱壓燒結(jié)處理包括以下步驟：

(A)抽真空至第一絕對壓力，升溫至第一溫度并保溫第一時間段；

(B)升溫至第二溫度并保溫第二時間段；

(C)加壓至第二絕對壓力并保溫保壓第三時間段；

(D)停止加熱并充入保護氣體至第三絕對壓力；

(E)降溫至第三溫度，得到鉻鎳坯料。

6.根據(jù)權利要求5所述的制備方法，其特征在于，步驟(A)所述第一絕對壓力為20-40Pa；

優(yōu)選地，步驟(A)所述第一溫度為850-950℃；

優(yōu)選地，步驟(A)所述第一溫度的升溫速率為8-12℃/min；

優(yōu)選地，步驟(A)所述第一時間段為1.5-2.5h；

優(yōu)選地，步驟(B)所述第二溫度為1000-1200℃；

優(yōu)選地，步驟(B)所述第二溫度的升溫速率為4-6℃/min；

優(yōu)選地，步驟(B)所述第二時間段為0.5-1.5h；

優(yōu)選地，步驟(C)所述第二絕對壓力為25-35MPa；

優(yōu)選地，步驟(C)所述第二絕對壓力的加壓速率為0.4-0.6MPa/min；

優(yōu)選地，步驟(C)所述第三時間段為1.5-2.5h；

優(yōu)選地，步驟(D)所述保護氣體包括氮氣、氬氣或氦氣中的任意一種；

優(yōu)選地，步驟(D)所述第三絕對壓力為0.02-0.04MPa；

優(yōu)選地，步驟(E)所述第三溫度為100-200℃。

7.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的制備方法，其特征在于，步驟(4)所述機加工包括拋光與切割。