[發明專利]一種氮化鎵材料的外延結構

在審

• 申請號: 202011590925.8
• 申請日: 2020-12-29
• 公開（公告）號: CN112563120A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 尹寶堂;吳軍;田澤;田露;黎力韜
• 申請（專利權）人: 廣西華智芯半導體科技有限公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/033
• 代理公司: 沈陽維特專利商標事務所(普通合伙) 21229
• 代理人: 王翠

1.一種氮化鎵材料的外延結構，包括外延底座(1)，其特征在于：所述外延底座(1)包括襯底板(11)，襯底板(11)的上表面均勻光刻有圖形結構(12)，所述圖形結構(12)呈正六邊形，每個所述圖形結構(12)外圍處成型有隔離槽(112)，所述隔離槽(112)的橫向間距等于圖形結構(12)的邊緣垂直壁厚，所述襯底板(11)的上表面縱向貼合有電極隔離條(14)，所述襯底板(11)的上表面橫向貼合有分割隔離條(15)。

2.根據權利要求1所述的一種氮化鎵材料的外延結構，其特征在于：所述圖形結構(12)的上表面開設有成型槽(13)。

3.根據權利要求2所述的一種氮化鎵材料的外延結構，其特征在于：所述成型槽(13)的垂直厚度等于圖形結構(12)的邊緣垂直壁厚的二分之一。

4.根據權利要求3所述的一種氮化鎵材料的外延結構，其特征在于：所述電極隔離條(14)的側表面與分割隔離條(15)的側表面相嚙合。

5.根據權利要求4所述的一種氮化鎵材料的外延結構，其特征在于：所述電極隔離條(14)由下至上分別一體成型有第一遮擋條(16)、第二遮擋條(17)和第三遮擋條(18)，所述第一遮擋條(16)的側邊與下表面夾角為110°-125°之間，所述第二遮擋條(17)的側邊延長線與下表面之間的夾角為100°-115°之間，所述第三遮擋條(18)的側邊為豎直狀態。

6.根據權利要求5所述的一種氮化鎵材料的外延結構，其特征在于：所述分割隔離條(15)由下至上分別一體成型有第一隔離條(19)、第二隔離條(110)和第三隔離條(111)，所述第一隔離條(19)、第二隔離條(110)和第三隔離條(111)的側面邊緣角度與第一遮擋條(16)、第二遮擋條(17)和第三遮擋條(18)為180°互補關系。