[發(fā)明專利]轉(zhuǎn)缸壓縮機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011590491.1 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112664458A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 許甲巋;馬聰聰;丁寧;杜忠誠;梁文斌;任麗萍 | 申請(專利權(quán))人: | 珠海格力電器股份有限公司 |
| 主分類號: | F04C29/00 | 分類號: | F04C29/00;F04C29/02;F04C18/344 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 劉娜 |
| 地址: | 519070 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓縮機 | ||
本發(fā)明提供了一種轉(zhuǎn)缸壓縮機。轉(zhuǎn)缸壓縮機包括:氣缸套,氣缸套具有容積腔;氣缸,氣缸可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在容積腔內(nèi),氣缸上沿其徑向開設(shè)有活塞孔;活塞,活塞滑動設(shè)置在活塞孔內(nèi);轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸穿過活塞并驅(qū)動活塞沿活塞孔的延伸方向往復(fù)運動,氣缸轉(zhuǎn)動以帶動活塞轉(zhuǎn)動,氣缸的外周面為第一接觸面,氣缸套的內(nèi)表面為第二接觸面,第一接觸面與第二接觸面構(gòu)成摩擦副表面,第一接觸面和/或第二接觸面上設(shè)置有織構(gòu)結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的轉(zhuǎn)缸壓縮機解決了氣缸與氣缸套間易磨損的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及轉(zhuǎn)缸壓縮機相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種轉(zhuǎn)缸壓縮機。
背景技術(shù)
目前,轉(zhuǎn)缸壓縮機在運行頻率升高時機械功耗的增幅要比轉(zhuǎn)子壓縮機更大,影響壓縮機能效,同時轉(zhuǎn)缸壓縮機的泵體摩擦副較多,對流體潤滑的要求也更高,潤滑不良可能會出現(xiàn)可靠性等問題。
氣缸安裝在氣缸套內(nèi)部,氣缸相對于氣缸套做圓周運動。由于氣缸與氣缸套的接觸面積大,在壓縮機實際運行過程中,氣缸與氣缸套間會產(chǎn)生較大摩擦,機械功耗增加,增大氣缸與氣缸套間的磨損。同時氣缸外周面與氣缸套內(nèi)周面均是構(gòu)成密封壓縮腔的密封面,氣缸與氣缸套間的摩擦?xí)茐拿芊饷娴拿芊庑阅堋?/p>
由上可知,目前轉(zhuǎn)缸壓縮機的氣缸與氣缸套會產(chǎn)生較大摩擦,導(dǎo)致氣缸與氣缸套受損,且破壞氣缸與氣缸套間的密封性的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種轉(zhuǎn)缸壓縮機,以解決現(xiàn)有技術(shù)中轉(zhuǎn)缸壓縮機的氣缸與氣缸套會產(chǎn)生較大摩擦,導(dǎo)致氣缸與氣缸套受損,且破壞氣缸與氣缸套間的密封性等問題。
為了實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種轉(zhuǎn)缸壓縮機,包括:氣缸套,氣缸套具有容積腔;氣缸,氣缸可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在容積腔內(nèi),氣缸上沿其徑向開設(shè)有活塞孔;活塞,活塞滑動設(shè)置在活塞孔內(nèi);轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸穿過活塞并驅(qū)動活塞沿活塞孔的延伸方向往復(fù)運動,氣缸轉(zhuǎn)動以帶動活塞轉(zhuǎn)動,氣缸的外周面為第一接觸面,氣缸套的內(nèi)表面為第二接觸面,第一接觸面與第二接觸面構(gòu)成摩擦副表面,第一接觸面和/或第二接觸面上設(shè)置有織構(gòu)結(jié)構(gòu)。
進一步地,織構(gòu)結(jié)構(gòu)由多個間隔設(shè)置的織構(gòu)凹槽組成。
進一步地,當(dāng)織構(gòu)結(jié)構(gòu)由多個間隔設(shè)置的織構(gòu)凹槽組成時,織構(gòu)凹槽的槽口呈橢圓形、圓形、多邊形中的一種或多種。
進一步地,織構(gòu)凹槽的槽口呈圓形時,織構(gòu)凹槽的當(dāng)量直徑為0.02至0.5mm。
進一步地,織構(gòu)凹槽的槽口呈橢圓形時,橢圓形的橢圓短軸a與橢圓形的橢圓長軸b之間滿足:1.5≤b/a≤3.5。
進一步地,橢圓形的橢圓長軸b與橢圓形的橢圓短軸a之間的比值為2:1。
進一步地,橢圓長軸b的取值范圍為200μm≤b≤400μm。
進一步地,第一接觸面和第二接觸面之間的摩擦副間隙L與織構(gòu)凹槽的深度H之間滿足:H/L為0.4至0.7。
進一步地,織構(gòu)凹槽的深度H為4微米至10微米。
進一步地,摩擦副表面的面積S與織構(gòu)結(jié)構(gòu)所在的區(qū)域的總面積S1之間滿足:S1/S為5%至10%。
進一步地,第一接觸面的至少一部分上設(shè)置有織構(gòu)結(jié)構(gòu);和/或第二接觸面的至少一部分上設(shè)置有織構(gòu)結(jié)構(gòu)。
進一步地,第一接觸面上各處均設(shè)置織構(gòu)結(jié)構(gòu);第二接觸面的部分區(qū)域設(shè)置織構(gòu)結(jié)構(gòu)。
進一步地,氣缸套具有吸氣通道和排氣通道,吸氣通道位于氣缸套的吸氣側(cè),排氣通道位于氣缸套的排氣側(cè),且第二接觸面位于吸氣側(cè)的區(qū)域上不設(shè)置織構(gòu)結(jié)構(gòu)。
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