[發明專利]高爾夫球桿頭表面處理方法在審
| 申請號： | 202011583598.3 | 申請日： | 2020-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN114686943A | 公開（公告）日： | 2022-07-01 |
| 發明（設計）人： | 黃敏鋒;馮建東 | 申請（專利權）人： | 復盛應用科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C25D5/14 | 分類號： | C25D5/14;C25D5/48;A63B53/04 |
| 代理公司： | 北京匯智英財專利代理事務所(普通合伙) 11301 | 代理人： | 劉祖芬 |
| 地址： | 中國臺灣臺北市中*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 高爾夫球桿 表面 處理 方法 | ||
1.一種高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，包括：
提供一個高爾夫球桿頭半成品的一個加工面，于該加工面電鍍厚度為1～40 μm的一個第一鎳鍍層；
以功率為20～60 W的一個激光束對該第一鎳鍍層進行雷射雕刻并同時通入一個保護氣體，以形成雕刻深度小于該第一鎳鍍層厚度的一個雕刻部；及
于雷射雕刻后，對該第一鎳鍍層電鍍厚度為1～40 μm的一個第二鎳鍍層。
2.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該第一鎳鍍層的厚度為10～30 μm。
3.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該保護氣體為一個惰性氣體。
4.如權利要求3所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該惰性氣體為氬氣。
5.如權利要求3或4所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該保護氣體的壓強為0.01～10 MPa。
6.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，雕刻深度為0.05～0.25 μm，雕刻寬度大于1 μm。
7.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該激光束的動作路徑為單向、雙向或環形。
8.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，該第二鎳鍍層的厚度介于10～30 μm。
9.如權利要求1所述的高爾夫球桿頭表面處理方法，其特征在于，另外包括于該第二鎳鍍層電鍍厚度為0.1～20 μm的一個鉻鍍層。
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