[發(fā)明專利]高性能電磁屏蔽NdB6 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011583226.0 | 申請日: | 2021-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN112573925B | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳事江;林楊;楊盼盼;趙金明;張合軍;李拯;楊煥順 | 申請(專利權(quán))人: | 山東合創(chuàng)明業(yè)精細陶瓷有限公司;淄博星澳新材料研究院有限公司;山東億萊盛新材料科技有限公司;淄博啟明星新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/58 | 分類號: | C04B35/58;C04B35/622;C04B35/626;C04B35/645 |
| 代理公司: | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212 | 代理人: | 耿霞 |
| 地址: | 255000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 性能 電磁 屏蔽 ndb base sub | ||
1.一種高性能電磁屏蔽NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷材料的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)合成六硼化釹粉體:將三氧化二釹和碳化硼采用濕法混合后,進行真空干燥,然后通過高溫硼碳熱還原反應(yīng),合成六硼化釹粉體;
(2)制備NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷:將六硼化釹和二氧化硅粉末采用濕法混合后,進行真空干燥,然后經(jīng)高溫?zé)釅簾Y(jié),制得高性能電磁屏蔽NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷材料;
步驟(1)中,三氧化二釹和碳化硼的摩爾比為Nd2O3:B4C=1:3.1-3.4;
步驟(1)中,三氧化二釹的純度≥99.9wt%,粒度為1-5μm;碳化硼的純度≥98wt%,粒度為50-70μm;
步驟(1)中,高溫硼碳熱還原反應(yīng)的氣氛為真空,真空度為0.001-1Pa,反應(yīng)溫度為1400-1700℃,升溫速率為10-20℃/min,反應(yīng)時間為1-4h;
步驟(2)中,高溫?zé)釅簾Y(jié)的條件為:燒結(jié)溫度1400-1650℃,壓力20-30MPa,保溫時間0.5-2h;
步驟(1)和步驟(2)中,真空干燥溫度均為25-50℃,干燥時間均為8-48h;
步驟(2)中,以重量比計,NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷的成分組成為NdB6:SiO2=85-98:15-2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能電磁屏蔽NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷材料的制備方法,其特征在于:步驟(1)和步驟(2)中,濕法混合條件均為:以瑪瑙球和無水乙醇為混合介質(zhì),轉(zhuǎn)速為80-150r/min,混合時間為8-24h。
3.一種根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法制備得到的高性能電磁屏蔽NdB6/SiO2復(fù)相陶瓷材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東合創(chuàng)明業(yè)精細陶瓷有限公司;淄博星澳新材料研究院有限公司;山東億萊盛新材料科技有限公司;淄博啟明星新材料股份有限公司,未經(jīng)山東合創(chuàng)明業(yè)精細陶瓷有限公司;淄博星澳新材料研究院有限公司;山東億萊盛新材料科技有限公司;淄博啟明星新材料股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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