[發(fā)明專利]多激光器光源

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011581471.8
• 申請日: 2015-08-14
• 公開（公告）號: CN112576950A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 約翰尼斯·米諾;格溫·丹貝格;巴維恩·庫馬蘭;安德斯·巴萊斯塔特;埃里克·揚(yáng)·科扎克;吉爾·羅森菲爾德;埃蘭·伊萊澤
• 申請（專利權(quán)）人: MTT創(chuàng)新公司
• 主分類號: F21K9/60
• 分類號: F21K9/60;F21K9/61;F21V29/90;G02B26/08;F21Y115/10;F21Y115/30
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 唐京橋;姜婷

1.一種光源，包括：

多個光發(fā)射器，所述多個光發(fā)射器中的每個光發(fā)射器能夠操作成發(fā)射相應(yīng)的光束；

一個或更多個鏡，所述一個或更多個鏡被布置成對所述光束進(jìn)行重定向以提供緊密間隔的平行光束陣列；以及

動態(tài)可尋址聚焦元件，所述動態(tài)可尋址聚焦元件由所述緊密間隔的平行光束陣列來照射，所述動態(tài)可尋址聚焦元件具有基本上被光斑陣列覆蓋的有效區(qū)域，所述光斑中的每個光斑與所述緊密間隔的平行光束陣列中的光束之一對應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源，其中，所述緊密間隔的平行光束陣列是具有以下長度和寬度的二維陣列，所述長度和寬度均比所述光斑中任一光斑的長度和寬度大。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源，其中，所述鏡包括第一組平行刀刃鏡和第二組平行刀刃鏡，所述第二組平行刀刃鏡相對于所述第一組刀刃鏡中的刀刃鏡被橫向地定向。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源，其中，所述鏡包括具有圓形對稱表面的至少一個鏡，并且所述多個光發(fā)射器被布置成將所述相應(yīng)光束定向成徑向地朝向所述至少一個鏡的所述圓形對稱表面，所述鏡操作成將所述光束重定向成在與所述至少一個鏡的對稱軸平行的方向上行進(jìn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光源，其中，所述至少一個鏡的所述圓形對稱表面是錐形表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光源，其中，所述至少一個鏡的所述圓形對稱表面是拋物形表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的光源，其中，所述光源被布置成至少第一組和第二組，其中，所述第一組的光源被布置在沿所述對稱軸的第一距離處，所述第二組的光源被布置在沿所述對稱軸的與所述第一距離不同的第二距離處。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的光源，包括在所述鏡與所述動態(tài)可尋址聚焦元件之間的縮微光學(xué)器件。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光源，其中，所述縮微光學(xué)器件被配置成將由所述緊密間隔的平行光束陣列覆蓋的橫截面面積減小至少4倍。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光源，其中，所述縮微光學(xué)器件包括第一透鏡和第二透鏡。