[發明專利]樣品處理裝置的局部真空保持裝置

在審

• 申請號: 202011580938.7
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN114649175A
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發明（設計）人: 芮世熙;鄭流淙;成明俊;安希浚
• 申請（專利權）人: 燦美工程股份有限公司
• 主分類號: H01J37/18
• 分類號: H01J37/18;H01J37/28
• 代理公司: 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384
• 代理人: 鄭青松

本發明涉及一種樣品處理裝置的局部真空保持裝置，更加詳細地，涉及一種樣品處理裝置的局部真空保持裝置，其為了觀察或者加工樣品而產生帶電粒子，在向樣品照射的路徑上形成孔隙，從而可以提高向樣品傳輸帶電粒子的效率，而且能夠在樣品周圍形成局部真空，從而能夠防止帶電粒子的散射以及用于構成圖像的二次電子等的消失，為了形成以及強化局部真空，可以通過雙重的局部真空保持結構提高局部真空的有效性，為了有效保持真空，適當調整氣體吸入和惰性氣體的排放壓力。

技術領域

本發明涉及一種在加工或者觀察樣品的樣品處理裝置中，將樣品周圍保持局部真空的裝置。更加詳細地，涉及一種在利用帶電粒子精密加工樣品或者向樣品進行照射來觀察樣品的裝置中，在大氣壓下處理樣品，從而在樣品所處位置的附近精密加工以及觀察的裝置。

背景技術

作為精密觀察樣品的裝置，代表性的為掃描電子顯微鏡(Scanning ElectronMicroscope)，掃描電子顯微鏡是通過向樣品照射電子束，并收集通過由向樣品照射的電子束而在樣品反射的電子或者由向樣品照射的電子產生的二次電子等，構成樣品的圖像。為了構成樣品的圖像，重要的是通過探測器盡可能多得收集包括二次電子在內的由向樣品照射的電子束產生的帶電粒子，由于二次電子等帶電粒子的能量小，因此通常是在形成真空的腔體內設置樣品并進行觀察。

最近正在對于將樣品放置在大氣中進行觀察的掃描電子顯微鏡進行研究，其也應用在精密觀察顯示器的特定部分以使顯示器的工藝最佳化，或者在大氣壓下分析大面積的顯示器以分析異物的成分。

然而，即便在大氣壓下觀察樣品，在形成電子束并形成有物鏡等的鏡筒中為了保持真空，以電子可通過的厚度配置電子穿透膜，電子穿透膜的壽命短而具有需要頻繁替換的問題，不僅如此，由于樣品處于大氣壓下，通過電子穿透膜的電子束在到達至樣品的途中因大氣而發生散射或者從樣品反射或者釋放的二次電子消失，從而具有難以進行精密的加工以及觀察的問題。

在大韓民國公開專利第2014-0027687號中公開有用于防止電子穿透膜的壽命縮短的電子穿透膜保護裝置以及具備其的掃描電子顯微鏡，然而在大韓民國公開專利第2014-0027687號中公開的掃描電子顯微鏡中均設置有電子穿透膜，因此具有需要對電子穿透膜進行維護的問題，而且無法阻止因樣品和電子穿透膜之間的大氣而發生散射和二次電子等的消失，具有難以進行精密的觀察以及加工的問題。

發明內容

發明要解決的問題

本發明是為了解決如上所述的問題，提供一種樣品處理裝置的局部真空保持裝置，其為了觀察或者加工樣品而產生帶電粒子，在向樣品照射的路徑上形成孔隙，從而可以提高向樣品傳輸帶電粒子的效率，而且能夠在樣品周圍形成局部真空，從而能夠防止帶電粒子的散射以及用于構成圖像的二次電子等的消失，為了形成以及強化局部真空，可以通過雙重的局部真空保持結構提高局部真空的有效性，為了有效保持真空，適當調整氣體吸入和惰性氣體的排放壓力。

解決問題的技術方案

為了達成如上所述的目的，本發明的樣品處理裝置的局部真空保持裝置為利用帶電粒子在大氣壓下加工或者觀察樣品的樣品處理裝置的局部真空保持裝置，其特征在于，包括：樣品放置臺，設置有樣品，用于在大氣壓下加工或者觀察所述樣品；柱部，釋放用于加工或者觀察設置在所述樣品放置臺上的樣品的帶電粒子；柱殼體，在內部容納有所述柱部并包括孔隙，所述孔隙設置在將從柱部釋放的帶電粒子向樣品照射的路徑上；局部真空保持部，在所述孔隙的外圍部吸入樣品部位的氣體以將放置有所述樣品的一定區域與外部進行局部性的阻隔；局部真空強化部，設置在所述局部真空保持部的外圍部，用于防止外部的氣體流入到放置有樣品的一定區域內。

另外，本發明的特征在于，所述局部真空保持部包括：吸入部，在所述柱殼體圍繞所述孔隙的外圍的一部分或者全部；以及真空泵，與所述吸入部連通。

另外，本發明的特征在于，所述局部真空保持部的吸入部以所述樣品為中心以傾斜的形態形成在所述柱殼體。