[發明專利]一種光學生物識別模組的制造方法及電子設備在審
| 申請號: | 202011578150.2 | 申請日: | 2020-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN112580579A | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 姜桐;黃昊;姜洪霖;楊成龍 | 申請(專利權)人: | 上海菲戈恩微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 成都蓉創智匯知識產權代理有限公司 51276 | 代理人: | 趙雷 |
| 地址: | 200000 上海市浦東新區中國(*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 生物 識別 模組 制造 方法 電子設備 | ||
本發明公開了一種光學生物識別模組的制造方法,包括以下步驟:S01:取芯片基體;S02:形成光闌層;S03:形成微透鏡陣列。本發明制成的光學生物識別模組壽命及性能較現有方法制備出的光學生物識別模組較好。
技術領域
本發明屬于電子領域,具體涉及一種光學生物識別模組的制造方法、一種光學生物識別模組及電子設備。
背景技術
指紋識別器件光路結構的消雜光光闌用于阻擋可見光通過,指紋識別器件光路結構的光闌層的常見材料為黑色光刻膠或油墨材料,目前消雜光光闌的制作包括以下步驟(如圖1):
S01:取圖2的芯片基體1;
S02:形成如圖3的微透鏡陣列5;
S03:形成圖4的帶光闌圖形的光闌層6。
從圖1的制備工藝中可以看出,光闌層是在完成微透鏡陣列制作后制作的,其不足之處在于:
在完成微透鏡陣列制作后,制造光闌層圖形時,一方面容易導致微透鏡表面存在光闌材料顯影殘留物,污染微透鏡,造成芯片功能下降甚至失效(如圖5);另一方面,另外油墨材料長期暴露于空氣中,極其不穩定,容易被腐蝕,以至于減小芯片使用壽命。
發明內容
針對上述缺陷,一方面,本發明提供一種光學生物識別模組的制造方法,該光學生物識別模組的制造方法制成的光學生物識別模組壽命及性能較現有方法制備出的光學生物識別模組較好。
一種光學生物識別模組的制造方法,包括以下步驟:
S01:取芯片基體;
S02:形成光闌層;
S03:形成微透鏡陣列。
可選地,所述S02包括S021:光闌材料覆蓋在芯片基體上形成光闌層。
可選地,所述S02還包括S022:覆蓋保護材料在光闌層和芯片基體上形成保護層。
可選地,所述保護材料為平坦化材料。
可選地,所述平坦化材料為永久性非感光材料。
可選地,所述覆蓋為旋轉涂膠覆蓋。
一方面,本發明還提供一種光學生物識別模組。
一種光學生物識別模組,包括微透鏡單元形成的微透鏡陣列、光闌單元形成的光闌陣列和光信號采集單元形成的信號采集陣列,所述光學生物識別模組還包括保護層,該保護層一部分覆蓋在光闌陣列上,另一部分位于微透鏡陣列下。
可選地,所述保護層為平坦化材料層;可選地,平坦化材料層為永久性非感光材料層。
可選地,所述光學生物識別模組還包括視場光闌。
可選地,所述光學生物識別模組還包括光學生物識別模組還包括光學填充層。
一方面,本發明還提供一種電子設備。
一種電子設備,包括顯示屏和光學生物識別模組,所述光學生物識別模組為上述的光學生物識別模組。
與現有技術相比,本發明的有益效果在于:
一方面,通過先制作光闌層后再制作微透鏡陣列,從而使得在光闌層曝光顯影后再制作微透鏡陣列,避免了光闌層曝光顯影后的殘留物殘留在微透鏡陣列上。另一方面,通過形成平坦化層,保護光闌層,同時防止微透鏡陣列來自光闌材料的污染。
附圖說明
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