[發明專利]一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設備有效
| 申請號: | 202011573836.2 | 申請日: | 2020-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN112285977B | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發明(設計)人: | 趙文卿 | 申請(專利權)人: | 北京瑞波科技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13363 | 分類號: | G02F1/13363;G02F1/1335;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 朱文杰 |
| 地址: | 100176 北京市大興區經*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 位相 延遲 裝置 及其 制備 方法 顯示 設備 | ||
本說明書實施例公開了一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設備,所述位相延遲裝置包括:第一偏振層、第一位相延遲層、第二位相延遲層和第二偏振層;所述第一偏振層位于光源的一側,用于將接收到的光線轉換為線性偏振光;所述第一位相延遲層位于所述第一偏振層遠離所述光源的一側,用于將所述線性偏振光轉換為橢圓偏振光;所述第二位相延遲層位于所述第一位相延遲層中遠離所述第一偏振層的一側,用于將所述橢圓偏振光轉換為線性偏振光;所述第二偏振層位于所述第二位相延遲層中遠離第一位相延遲層的一側,用于吸收所述線性偏振光;所述第一位相延遲層和所述第二位相延遲層的雙折射率不隨著可見光波長的增加而減少。
技術領域
本說明書涉及顯示技術領域,尤其涉及一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設備。
背景技術
隨著手機、平板電腦、車載顯示器等終端設備的不斷普及,重量輕、小型的液晶顯示器(Liquid Crystal Dispaly,LCD)應運而生,其中,IPS和FFS類型的LCD顯示器以更為優異的視角表現占據了較大的市場。
目前,IPS和FFS類型的LCD顯示器為提高側視角上的表現,可以在偏光片中添加補償膜,如由正性分布液晶的+A Plate和+C Plate疊加而成的補償膜。但是,由于正性分布的液晶在成膜后的特性差,所以,在不同的波段上,這種補償膜結構就無法避免由于偏光片的偏光軸的投影偏差導致的暗態漏光的問題,導致顯示屏在寬波段下的側視角表現差。
發明內容
本說明書實施例的目的是提供一種位相延遲裝置及其制備方法、顯示設備,以解決現有技術中存在的顯示屏在寬波段下的側視角表現差的問題。
為解決上述技術問題,本說明書實施例是這樣實現的:
第一方面,本說明書實施例提供的一種位相延遲裝置,該位相延遲裝置包括:第一偏振層、第一位相延遲層、第二位相延遲層和第二偏振層;
所述第一偏振層位于光源的一側,用于將接收到的光線轉換為線性偏振光;
所述第一位相延遲層位于所述第一偏振層遠離所述光源的一側,用于將所述線性偏振光轉換為橢圓偏振光;
所述第二位相延遲層位于所述第一位相延遲層中遠離所述第一偏振層的一側,用于將所述橢圓偏振光轉換為線性偏振光;
所述第二偏振層位于所述第二位相延遲層中遠離第一位相延遲層的一側,用于吸收所述線性偏振光;
所述第一位相延遲層和所述第二位相延遲層的雙折射率不隨著可見光波長的增加而減少,所述第一位相延遲層和所述第二位相延遲層中的至少一個為包括負性分布液晶的液晶層,所述負性分布液晶的分布參數滿足預設分布范圍,所述分布參數由所述負性分布液晶在多個不同波段的目標參數確定,所述目標參數包括延遲量、雙折射率中的一個或多個。
可選地,所述第一位相延遲層的折射率滿足其中,為所述第一位相延遲層的滯后相軸方向的折射率,為所述第一位相延遲層的超前相軸方向的折射率,為所述第一位相延遲層的厚度方向的折射率,所述第二位相延遲層的折射率滿足其中,為所述第二位相延遲層的滯后相軸方向的折射率,為所述第二位相延遲層的超前相軸方向的折射率,為所述第二位相延遲層的厚度方向的折射率。
可選地,所述負性分布液晶為負性分布的反應型聚合物液晶。
可選地,所述預設分布范圍包括第一子范圍和第二子范圍,所述第一子范圍為由所述負性分布液晶在藍光波段的目標參數與在綠光波段的目標參數確定,所述第二子范圍為由所述負性分布液晶在紅光波段的目標參數與在綠光波段的目標參數確定。
可選地,所述第一位相延遲層和所述第二位相延遲層為包括所述負性分布液晶的液晶層,所述位相延遲裝置還包括第一配向層和第二配向層,所述第一配向層用于基于第一預傾角對所述第一位相延遲層包括的所述負性分布的液晶進行配向,所述第二配向層用于基于第二預傾角對所述第二位相延遲層包括的所述負性分布的液晶進行配向,
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京瑞波科技術有限公司,未經北京瑞波科技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011573836.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





