[發明專利]爐管清洗裝置及爐管清洗設備

有效

• 申請號: 202011572977.2
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112808720B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 王延廣;趙宏宇;張敬博;高廣新;梁家齊
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: B08B9/049
• 分類號: B08B9/049;B08B13/00
• 代理公司: 北京薈英捷創知識產權代理事務所(普通合伙) 11726
• 代理人: 左文

本發明公開了一種爐管清洗裝置及爐管清洗設備，裝置包括：傳動機構、清洗機構和清洗介質管路；所述傳動機構與所述清洗機構連接，用于驅動所述清洗機構在爐管內移動；所述清洗介質管路與所述清洗結構連通，用于將清洗介質通入所述清洗機構；所述清洗機構用于噴出所述清洗介質，并在所述清洗介質的反作用力下旋轉。實現對爐管內壁的自動清洗，提高清洗效果。

技術領域

本發明涉及半導體設備領域，更具體地，涉及一種爐管清洗裝置及爐管清洗設備。

背景技術

目前，用于清洗爐管(例如石英管)的清洗設備主要分為立式清洗機和臥式清洗機。臥式清洗機是對爐管進行浸泡清洗，立式清洗機是對爐管和晶舟進行噴淋清洗。兩者對于爐管的外壁清洗效果都比較明顯，但對于爐管內壁的清洗效果卻不太理想。爐管內壁的顆粒度直接影響著wafer擴散工藝的合格率，因此，爐管內壁的清洗效果尤為重要。同時，在爐管清洗完成后，通常使用N2槍對爐管表面進行吹掃、干燥，而爐管內壁無法使用氣槍吹掃，爐管內壁需要自然干燥。

如圖1所示，臥式清洗機一般采用內噴嘴的形式清洗爐管內壁。進行清洗工藝時，機械手101運輸爐管105到達下工藝位，爐管105接觸到位于水洗槽102內底部的滾動機構103，滾動機構的滾子104在電機的驅動下，帶動爐管105旋轉。在水槽的一側設置有噴嘴106，噴嘴106后接的軟管連接到機臺純水管路，通過控制氣動閥開閉，使用廠務的去離子水(DIW)對爐管內壁沖洗。臥式清洗機存在如下缺點：

1、進行清洗工藝時，爐管完全浸泡在水洗槽102中，從內噴嘴106噴出的DIW會遇到很大阻力，水流無法沖洗到爐管105內壁，更加無法沖洗到爐管頂部，無法達到良好的清洗效果。

2、由于爐管的長度通常要大于1500mm，在完成爐管清洗后，氣槍無法深入到爐管內腔較深的地方，爐管在清洗完成后，使用氣槍只能對爐管外壁吹掃，無法對內壁吹掃，內壁只能自然干燥，耗費時間較長。

如圖2所示，立式清洗機在爐管下方設計有向上的噴頭201，經噴頭201噴射的水柱清洗爐管內壁。進行清洗工藝時，爐管202放置在卡盤203上，卡盤203通過緊固螺釘204與支撐法蘭205安裝在一起，支撐法蘭205中間外套齒輪206，支撐法蘭205底部通過導軌坐落在底部支撐板207上，旋轉電機帶動齒輪206旋轉，從而帶動爐管卡盤203和爐管202旋轉。廠務的DIW經過底部噴頭201向上噴射至爐管內壁頂部，頂部的水順著爐管內壁順流而下，達到內壁清洗的效果。立式清洗機存在如下缺點：

1、底部噴淋依靠兩條豎直方向的噴淋管沖洗爐管頂部，大量的水在接觸頂部后會直接掉落，只有少量的水會順著爐管內壁流下，難以清洗干凈內壁存在顆粒，清洗效果不佳。

2、此種立式清洗方法，同樣使用氣槍對爐管外壁吹掃，內壁則依靠底部噴頭噴出的氮氣干燥，但噴頭位置距爐管內壁距離較遠，干燥效果不明顯。

發明內容

本發明的目的是提出一種爐管清洗裝置及爐管清洗設備，實現對爐管內壁的自動清洗及干燥。

為實現上述目的，本發明提出一種爐管清洗裝置，包括：傳動機構、清洗機構和清洗介質管路；

所述傳動機構與所述清洗機構連接，用于驅動所述清洗機構在爐管內移動；

所述清洗介質管路與所述清洗結構連通，用于將清洗介質通入所述清洗機構；

所述清洗機構用于噴出所述清洗介質，并在所述清洗介質的反作用力下旋轉。

可選地，所述傳動機構包括導軌槽、傳輸鏈條、鏈輪和鏈輪驅動機構，所述傳輸鏈條設置于所述導軌槽內，至少部分所述導軌槽的延伸方向朝向所述爐管的內部，所述清洗機構設置于所述傳輸鏈條的一端，所述鏈輪與所述傳輸鏈條驅動配合，所述鏈輪驅動機構用于驅動所述鏈輪轉動，進而驅動所述傳輸鏈條及所述清洗機構在所述爐管內移動。