[發明專利]深紫外正型光刻膠成膜樹脂及其制備方法

在審

• 申請號: 202011567493.9
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN112694555A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 孫奇偉;白鋼;獨文倩
• 申請（專利權）人: 蘇州禾川化學技術服務有限公司
• 主分類號: C08F212/14
• 分類號: C08F212/14;C08F222/40;G03F7/004;G03F7/039
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 王玉仙

1.一種深紫外耐高溫正型光刻膠成膜樹脂，其特征在于，所述的深紫外耐高溫正型光刻膠成膜樹脂中包括如下結構通式的共聚物：

其中，R選自m為50～100之間的整數，n為80～150之間的整數。

2.一種權利要求1所述的深紫外耐高溫正型光刻膠成膜樹脂的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

將羥基苯乙烯和N-取代馬來酰亞胺類化合物溶于有機溶劑中，通入保護氣氛除氧，在引發劑作用下，65～90℃恒溫反應10～30h，冷卻至20～30℃，攪拌條件下加水，抽濾，洗滌、干燥得到所述的深紫外耐高溫正型光刻膠成膜樹脂。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的深紫外耐高溫正型光刻膠成膜樹脂制備過程中，原料按照如下重量份投料：羥基苯乙烯20-40份，N-取代馬來酰亞胺類化合物25-50份，有機溶劑30-50份，引發劑0.1-0.5份。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的有機溶劑為丙酮、2-丁酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氫呋喃、甲苯、二甲苯、二甲亞砜、乙酸乙酯、乙酸丁酯、N-甲基吡咯烷酮中的至少一種。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的引發劑為偶氮二異丁腈、偶氮二異庚腈、偶氮二異丁酸二甲酯、過氧化苯甲酰、過氧化苯甲酰叔丁酯、過氧化甲乙酮中的至少一種。

6.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的N-取代馬來酰亞胺類化合物通過如下方法制備得到：馬來酸酐與芳香胺或脂肪胺在有機溶劑中，經脫水劑和催化劑作用下，制得N-取代馬來酰亞胺類化合物，其結構通式為：

其中，R選自

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述的催化劑包括醋酸鎳、正丁醇鋯、辛酸亞錫、異辛酸亞錫、二月桂酸二丁基錫、鈦酸四丁酯或醋酸鋅中的至少一種。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述的脫水劑包括甲酸酐、乙酸酐、苯酐、分子篩中的一種或多種。

9.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述的N-取代馬來酰亞胺類化合物制備過程中，原料按照如下重量份進行投料：馬來酸酐20-40份，芳香胺或脂肪胺20-40份，有機溶劑40-60份，脫水劑2-5份，催化劑0.5-2.5份。

10.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的保護氣氛為氮氣或惰性氣體。