[發(fā)明專利]電阻應(yīng)變片及其制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202011563522.4
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN112747665A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮雪;傅棋琪
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江清華柔性電子技術(shù)研究院;清華大學(xué)
• 主分類號: G01B7/16
• 分類號: G01B7/16
• 代理公司: 上海波拓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264
• 代理人: 林麗璀

1.一種電阻應(yīng)變片，其特征在于，包括柔性襯底與應(yīng)變敏感柵，所述應(yīng)變敏感柵位于所述柔性襯底的一側(cè)表面，所述應(yīng)變敏感柵包括多段相互連接的蛇形柵線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻應(yīng)變片，其特征在于，所述柔性襯底包括依次層疊的第一柔性襯底與第二柔性襯底，所述應(yīng)變敏感柵位于所述第一柔性襯底的背向所述第二柔性襯底的一側(cè)表面，所述第二柔性襯底為整面結(jié)構(gòu)，所述第一柔性襯底的形狀與所述應(yīng)變敏感柵相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻應(yīng)變片，其特征在于，構(gòu)成所述蛇形柵線的弧的圓心角小于180°；或，構(gòu)成所述蛇形柵線的弧的圓心角為0-90°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻應(yīng)變片，其特征在于，所述蛇形柵線的寬度與所述應(yīng)變敏感柵的引出端的寬度之比小于1:5，且所述蛇形柵線的寬度小于或等于100μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻應(yīng)變片，其特征在于，所述蛇形柵線包括沿第一方向平行間隔排列的第一蛇形柵線以及依次連接相鄰所述第一蛇形柵線的端部的第二蛇形柵線。

6.一種電阻應(yīng)變片的制作方法，其特征在于，包括：

a.提供一基板組件，所述基板組件包括施主基板及可剝離地設(shè)置在所述施主基板一側(cè)表面的第一柔性襯底；

b.在所述第一柔性襯底上形成應(yīng)變敏感柵，所述應(yīng)變敏感柵包括多段相互連接的蛇形柵線；

c.將所述第一柔性襯底與所述應(yīng)變敏感柵的組合體從所述施主基板上剝離；

d.將所述組合體的具有所述第一柔性襯底的一側(cè)貼附在第二柔性襯底的表面；

e.得到電阻應(yīng)變片。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電阻應(yīng)變片的制作方法，其特征在于，步驟b，包括：

b1.在所述第一柔性襯底上形成電阻材料層；

b2.對所述電阻材料層進(jìn)行圖案化，得到應(yīng)變敏感柵，所述應(yīng)變敏感柵包括多段相互連接的蛇形柵線。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電阻應(yīng)變片的制作方法，其特征在于，步驟b2，包括：

在所述電阻材料層上涂覆正性光刻膠；

使用具有與所述應(yīng)變敏感柵相同圖案的掩模板對所述正性光刻膠進(jìn)行曝光圖案化；

刻蝕除去所述電阻材料層的未被所述正性光刻膠覆蓋的部分；

除去所述正性光刻膠，得到所述應(yīng)變敏感柵。

9.根據(jù)權(quán)利要求6、7或8所述的電阻應(yīng)變片的制作方法，其特征在于，構(gòu)成所述蛇形柵線的弧的圓心角小于180°；或，構(gòu)成所述蛇形柵線的弧的圓心角為0-90°。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電阻應(yīng)變片的制作方法，其特征在于，步驟e，包括：

刻蝕除去所述第一柔性襯底的未被所述應(yīng)變敏感柵覆蓋的部分。