[發(fā)明專利]圖形處理方法及裝置、電子設備、存儲介質

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011563152.4
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN113010067A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設計）人: 張文昊
• 申請（專利權）人: 北京小米移動軟件有限公司
• 主分類號: G06F3/0484
• 分類號: G06F3/0484;G06F3/0488
• 代理公司: 北京善任知識產權代理有限公司 11650
• 代理人: 張振偉

1.一種圖形處理方法，其特征在于，所述方法包括：

響應于檢測到的第一操作，繪制與所述第一操作對應的第一痕跡；

響應于檢測到的第二操作，為所述第一痕跡確定匹配圖形，并以所述匹配圖像更替所述第一痕跡；

響應于檢測到的第三操作，調用第一函數(shù)，所述第一函數(shù)響應于檢測到的第四操作，對所述匹配圖形進行動態(tài)調整，生成第一匹配圖形。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

響應于檢測到所述第一匹配圖形的軌跡點與已生成的第二匹配圖形或第二痕跡的軌跡點之間的距離小于第一閾值，且小于所述第一閾值的軌跡點位于非相交的線條上，調用第二函數(shù)，所述第二函數(shù)對所述第一匹配圖形進行平移，使小于所述第一閾值的軌跡點之間距離最小的點重合。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

響應于檢測到的第五操作，繪制與所述第五操作對應的第三痕跡；

響應于檢測所述第三痕跡的軌跡點與已生成的第三匹配圖形或第四痕跡的軌跡點之間的距離小于第一閾值，且小于所述第一閾值的軌跡點位于非相交的線條上，調用第二函數(shù)，所述第二函數(shù)對所述第三痕跡進行平移，使小于所述第一閾值的軌跡點之間距離最小的點重合。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述匹配圖形進行動態(tài)調整，包括：

對所述匹配圖形進行以下至少之一的調整：

縮放、旋轉、移動、改變線條夾角的角度。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

響應于檢測到所述第一操作的第一屬性，繪制所述第一痕跡的寬度與所述第一屬性匹配。

6.根據(jù)權利要求1至5任一項所述的方法，其特征在于，所述第二操作包括以下操作：

超出第一設定時長按壓操作，或連續(xù)點擊超出第一設定數(shù)的點擊操作，或第一設定按鍵被觸碰；

所述第三操作包括以下操作：

按壓拖動操作，或連續(xù)點擊超出第二設定數(shù)的點擊操作，或第二設定按鍵被觸碰。

7.一種圖形處理裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一檢測單元，用于檢測第一操作；

繪制單元，用于響應于所述第一操作，繪制與所述第一操作對應的第一痕跡；

更替單元，用于響應于所述第一檢測單元檢測到的第二操作，為所述第一痕跡確定匹配圖形，并以所述匹配圖像更替所述第一痕跡；

第一調用單元，用于響應于所述第一檢測單元檢測到的第三操作，調用第一函數(shù)；

生成單元，用于通過所述第一函數(shù)響應于所述第一檢測單元檢測到的第四操作，對所述匹配圖形進行動態(tài)調整，生成第一匹配圖形。

8.根據(jù)權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

第二檢測單元，用于檢測所述第一匹配圖形的軌跡點與已生成的第二匹配圖形或第二痕跡的軌跡點之間的距離是否小于第一閾值，并檢測小于所述第一閾值的軌跡點是否位于非相交的線條上；

第二調用單元，還用于響應于所述第二檢測單元檢測到所述第一匹配圖形的軌跡點與已生成的第二匹配圖形或第二痕跡的軌跡點之間的距離小于第一閾值，且小于所述第一閾值的軌跡點位于非相交的線條上，調用第二函數(shù)；

平移單元，用于通過所述第二函數(shù)對所述第一匹配圖形進行平移，使小于所述第一閾值的軌跡點之間距離最小的點重合。

9.根據(jù)權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述繪制單元，還用于響應于所述第一檢測單元檢測到的第五操作，繪制與所述第五操作對應的第三痕跡；

所述第二調用單元，還用于響應于所述第二檢測單元檢測所述第三痕跡的軌跡點與已生成的第三匹配圖形或第四痕跡的軌跡點之間的距離小于第一閾值，且小于所述第一閾值的軌跡點位于非相交的線條上，調用第二函數(shù)；

所述平移單元，還用于通過所述第二函數(shù)對所述第三痕跡進行平移，使小于所述第一閾值的軌跡點之間距離最小的點重合。