[發(fā)明專利]一種硅基太陽能電池及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011562211.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113161431B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳駿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0216 | 分類號(hào): | H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王洋 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種硅基太陽能電池,包括依次設(shè)置的前電極、前減反射層、前發(fā)射電極、Si(p)硅基本征層、In摻雜層、量子點(diǎn)薄層、氧化鋁背面鈍化層、SixNy背面氮化硅層、鋁背場層和背電極。本發(fā)明通過上述各個(gè)層依次設(shè)置,特別是摻雜層和量子點(diǎn)薄層的設(shè)置,在P型硅底層擴(kuò)散ⅢA族其他元素形成P+層,然后鍍上近紅外光譜的吸收材料的量子點(diǎn)薄層,利用這種近紅外光區(qū)的半導(dǎo)體材料對(duì)長波的吸收特性,增加光能的利用,提高光電的轉(zhuǎn)化效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電池技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種硅基太陽能電池及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來,隨著太陽能電池的研究和生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展以及低碳環(huán)境的要求,太陽能電池在傳統(tǒng)能源領(lǐng)域越來越不可替代的作用。
目前傳統(tǒng)的硅基太陽能電池因其效率優(yōu)勢(shì)成為太陽能產(chǎn)品中的主流產(chǎn)品得到了廣泛的市場應(yīng)用。相對(duì)于其他類型的太陽能電池產(chǎn)品(薄膜太陽能電池,敏化太陽能電池,鈣鈦礦太陽能電池)其生產(chǎn)相對(duì)成熟,光電轉(zhuǎn)換效率相對(duì)較佳,在未來一段時(shí)間內(nèi)仍舊是不可替代的。
盡管目前硅基太陽能電池具有諸多優(yōu)勢(shì),尤其是目前較熱的PERC電池,但是其Si禁帶寬度1.1ev,光吸收截止波長1100nm,對(duì)長波段的光仍舊利用較低,因此提高目前PERC電池的長波段吸收從而提高太陽能電池效率是非常必要的。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于提供一種硅基太陽能電池,本發(fā)明提供的硅基太陽能電池長波段光利用率高,轉(zhuǎn)換效率高。
本發(fā)明提供了一種硅基太陽能電池,包括依次設(shè)置的前電極、前減反射層、前發(fā)射電極、Si(p)硅基本征層、In摻雜層、量子點(diǎn)薄層、氧化鋁背面鈍化層、SixNy背面氮化硅層、鋁背場層和背電極。
優(yōu)選的,所述前發(fā)射電極為N型硅層;所述前電極為Ag漿料,所述前減反射層為氮化硅膜層,所述背電極為Ag漿或銀鋁漿;
優(yōu)選的,所述Si(p)硅基本征層為P型硅層;所述P型硅層是由薄片狀單晶硅或者多晶硅構(gòu)成,其中p型硅層的硼摻雜濃度為2×1018(1/cm3)。
優(yōu)選的,所述In摻雜層在P型硅底層擴(kuò)散ⅢA族元素形成P+層。
優(yōu)選的,所述ⅢA族元素包括銦、硼、鋁、鎵中的一種或幾種。
優(yōu)選的,所述量子點(diǎn)薄層選自In2S3、N摻雜的二氧化鈦、Er3+摻雜的ZnO-CuO-ZnAl2O4多層氧化物結(jié)構(gòu)、Er3+摻雜的ZnO-ZnAl2O4多層氧化物結(jié)構(gòu)和Yb3+,Er3+,Tm3+摻雜的BiVO4結(jié)構(gòu)中的一種或幾種。
優(yōu)選的,所述前減反射層的厚度為70~90nm;所述前發(fā)射電極厚度為0.2~0.3μm;所述Si(p)硅基本征層厚度為170~180nm;所述In摻雜層厚度為10~20nm。
優(yōu)選的,所述氧化鋁背面鈍化層厚度為20~30nm;所述SixNy背面氮化硅層厚度為70~100nm;所述鋁背場層厚度為20~30μm。
本發(fā)明提供了一種硅基太陽能電池的制備方法,包括:
采用絲網(wǎng)印刷的方式制備背電極;
在所述背電極上采用絲網(wǎng)印刷的方式制備鋁背場層;
在所述鋁背場層上采用PECVD方式沉積SixNy背面氮化硅層;
在所述SixNy背面氮化硅層上采用沉積氧化鋁背面鈍化層;
在所述氧化鋁背面鈍化層上采用噴淋得到量子點(diǎn)薄層;
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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