[發(fā)明專利]晶圓化學(xué)處理裝置及晶圓化學(xué)處理方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011555811.X
• 申請(qǐng)日: 2020-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN114678290A
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姜喆求;盧一泓;胡艷鵬;李琳;張?jiān)?/a>;王佳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;真芯（北京）半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京蘭亭信通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11667
• 代理人: 趙永剛

本發(fā)明提供一種晶圓化學(xué)處理裝置及晶圓化學(xué)處理方法，其中晶圓化學(xué)處理裝置包括：槽體、槽蓋、測(cè)壓器和氣壓調(diào)控模塊；所述槽體的上表面開設(shè)有開口，所述開口用于提供晶圓進(jìn)行化學(xué)處理的腔室；所述槽蓋與所述槽體連接，所述槽蓋與所述開口適配，所述槽蓋用于將所述腔室形成密閉的空間；所述測(cè)壓器固定設(shè)置在所述腔室內(nèi)；所述氣體調(diào)控模塊用于根據(jù)測(cè)壓器的測(cè)量結(jié)果，調(diào)節(jié)所述腔室內(nèi)的壓強(qiáng)。本發(fā)明能夠通過調(diào)節(jié)腔室內(nèi)的壓強(qiáng)，以穩(wěn)定化學(xué)液的沸騰狀態(tài)，從而提高晶圓進(jìn)行化學(xué)處理的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓化學(xué)處理裝置及晶圓化學(xué)處理方法。

背景技術(shù)

在晶圓加工的過程中，特別是槽式清洗設(shè)備在通過化學(xué)試劑對(duì)晶圓表面進(jìn)行處理的過程中，對(duì)晶圓處理的槽內(nèi)的氣壓要求很高。因?yàn)椋蹆?nèi)氣壓的高低直接影響化學(xué)試劑的沸點(diǎn)，氣壓升高化學(xué)液沸點(diǎn)升高，氣壓降低化學(xué)液沸點(diǎn)降低。

具體的，在通過化學(xué)試劑對(duì)晶圓進(jìn)行處理的過程中，通常由于化學(xué)試劑的沸點(diǎn)較低導(dǎo)致化學(xué)試劑在槽內(nèi)沸騰的過于激烈，從而容易產(chǎn)生飛濺，對(duì)設(shè)備造成污染，甚至?xí)?duì)晶圓造成損壞。

另外，通常槽式清洗設(shè)備的化學(xué)液為敞口非密閉式，受環(huán)境氣壓變化的影響較大。由于凈化間環(huán)境壓力容易發(fā)生變化，從而易導(dǎo)致化學(xué)液沸點(diǎn)的變化，最終導(dǎo)致清洗、腐蝕效果不佳、重復(fù)性差等問題。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供的晶圓化學(xué)處理裝置及晶圓化學(xué)處理方法，通過向晶圓提供一個(gè)進(jìn)行化學(xué)處理的密閉的腔室，且通過氣壓調(diào)控模塊能夠調(diào)節(jié)腔室內(nèi)的壓強(qiáng)，進(jìn)而改變化學(xué)試劑的沸點(diǎn)，穩(wěn)定化學(xué)液反應(yīng)時(shí)的沸騰狀態(tài)，避免晶圓在進(jìn)行化學(xué)處理的過程中化學(xué)試劑沸騰停止或沸騰的過于激烈，從而能夠有效提高晶圓的處理效果。

第一方面，本發(fā)明提供一種晶圓化學(xué)處理裝置，包括：槽體、槽蓋、測(cè)壓器和氣壓調(diào)控模塊；

所述槽體的上表面開設(shè)有開口，所述開口用于提供晶圓進(jìn)行化學(xué)處理的腔室；

所述槽蓋與所述槽體連接，所述槽蓋與所述開口適配，所述槽蓋用于將所述腔室形成密閉的空間；

所述測(cè)壓器固定設(shè)置在所述腔室內(nèi)；

所述氣體調(diào)控模塊用于根據(jù)測(cè)壓器的測(cè)量結(jié)果，調(diào)節(jié)所述腔室內(nèi)的壓強(qiáng)。

可選地，所述氣體調(diào)控模塊包括：進(jìn)氣管和進(jìn)氣控制閥；

所述進(jìn)氣管與所述槽體連接，所述進(jìn)氣控制閥與所述進(jìn)氣管連接；

所述進(jìn)氣管包括：進(jìn)氣端和出氣端，所述進(jìn)氣端位于所述槽體的外側(cè)，所述出氣端位于所述腔室內(nèi)。

可選地，所述進(jìn)氣管包括：第一氣管和第二氣管；

所述第一氣管和所述第二氣管均與所述槽體連接；所述第一氣管的進(jìn)氣端和所述第二氣管的進(jìn)氣端均位于所述槽體的外側(cè)，所述第一氣管的出氣端和所述第二氣管的出氣端均位于所述腔室內(nèi)，所述第一氣管用于輸送空氣，所述第二氣管用于輸送氮?dú)狻?/p>

可選地，所述氣體調(diào)控裝置還包括：出氣管和出氣控制閥；

所述出氣管與所述槽體連接，所述出氣控制閥與所述出氣管連接；

所述出氣管的一端位于所述槽體的外側(cè)，所述出氣管的另一端位于所述腔室內(nèi)。

可選地，所述腔室內(nèi)設(shè)置有清洗槽，所述清洗槽用于盛放化學(xué)試劑；

所述清洗槽的槽口朝上，所述出氣端、所述測(cè)壓器和所述出氣管的一端均位于所述清洗槽的上方。

可選地，所述氣壓調(diào)控模塊還包括：控制器；

所述控制器分別與所述進(jìn)氣控制閥和所述出氣控制閥電連接；